空气污染防治技术.docVIP

废气、废水处理技术 空氣污染防治技術 半導體元件的製造過程不容許空氣中含有過多微粒，會影響產品的品質，所以需要有非常乾淨的環境來進行半導體製造。符合需求的設計就是無塵室。由於其生產過程需在無塵室中進行，污染物的排放型態比一般工業特殊。而半導體製程所使用的化學物質品種繁雜，其廢氣處理也可區分成許多不同性質處理方式。 本章將介紹關於無塵室中之集氣系統，與各類空氣污染物處理原則與技術。 空氣污染物收集系統 半導體製造是種高度精密化的工業，一些細微的環境或操作變動都有可能影響其製造成品之品質，因此製程均要求在嚴格控制下的無塵室中操作。無塵室是個採層層過濾以去除空氣中微粒存在，並控制室內溫度與溼度於恆定狀態的密閉空間。半導體製作過程所產生的污染源也均發生於無塵室之中，為了避免其污染物之大量化學物質危害身處於其中的作業人員安全，空氣污染物的收集於半導體製造業更為重要。一般對於空氣污染物的收集，大部分採用局部排氣系統。局部排氣系統基本上包括氣罩，風管，風車，空氣清淨裝置等，其中以氣罩的設計為收集空氣污染物的最重要影響因素。本節將介紹無塵室之設計與氣罩設計這兩部分。 無塵室設計 空氣中的微粒，對半導體製作某些步驟，如清洗，載體傳輸操作或塗敷光阻劑製程時會造成影響而形成重大的損失。因此，為了降低不良率，大部分的半導體生產過程均需在嚴格控制室內空氣品質的無塵室完成。 無塵室種類依氣流型式