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[材料科学]2_材料表面分析 [兼容模式]
材料现代分析方法 材料表面分析
二、材料表面分析
College of MSE, CQU 1
材料现代分析方法 材料表面分析
前 言
表面分析的重要性
固体的表面状态,对于材料的性能,有着极其重要
的影响。例如,材料的氧化和腐蚀、强韧性和断裂行为、
半导体的外延生长等等,都与表面层或几个原子层以内
原子尺度上的化学成分和结构有着密切的关系。因此,
要求从微观的、甚至是原子和分子的尺度去认识表面现
象。
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材料现代分析方法 材料表面分析
表面分析的难点
但是,由于被分析的深度和侧向范围是如此浅薄和
细微,被检测信号来自极小的采样体积,信息强度十分
微弱,重复性差,对分析系统的灵敏度要求也很高。
所以,直到六十年代前后,随着超高真空和电子技
术的突破,才使表面分析技术迅速发展起来。
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材料现代分析方法 材料表面分析
表面结构及成分分析的主要技术
俄歇电子能谱分析(AES )
X射线光电子能谱分析(XPS )
场离子显微分析(FIM )
原子探针(Atom Probe )
离子探针(IMA )
低能电子衍射(LEED )
扫描隧道显微镜(SPM )
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材料现代分析方法 材料表面分析
2.1 俄歇电子能谱分析
俄歇(Auger)过程和俄歇电子
1925年,法国科学家Pierre Auger 在用X射线研究某
些惰性气体的光电效应时,意外地发现了一些短小的电
子轨迹。轨迹的长度不随入射X射线的能量而变化,但
随原子的不同而变化。Auger认为:这一现象是原子受
激后的另一种退激过程所至。过程涉及原子内部的能量
转换,而后使外层电子克服结合能向外发射。他的发现
与所做的相应解释被证明是正确的。因此,用他的名字
来命名这种过程和发射的电子。
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材料现代分析方法 材料表面分析
俄歇电子产生过程
入射电子使试样中某原子的
KL L 俄歇电子
内层(如K层)电子激发(打飞) 2 3
后,外层电子(如L2层电子)将回
高能电子 光电子
跃到内层(K层)来填补空位,假
如多余的能量( △E=EL2-EK)不
是以特征X射线的形式释放出 L3
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