X射线光电子能谱在材料表面研究中的应用.pdfVIP

第43卷摇 第1期 摇 摇 摇 表面技术 摇 摇 2014年02月 SURFACE TECHNOLOGY ·119 · 試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試 藡蕥蕥蕥蕥蕥蕥蕥蕥蕥藡蕥蕥 综述 ·专论 藡蕥蕥蕥蕥蕥蕥蕥蕥蕥 藡 X射线光电子能谱在材料表面研究中的应用 1 1 2 1 余锦涛 ,郭占成 ,冯婷 ,支歆 (1.北京科技大学 钢铁冶金新技术国家重点实验室,北京 100083; 2.北京科技大学 冶金实验技术中心,北京 100083) 摘摇 要:通过阐述XPS测试原理及工作特点,讨论其在材料表面研究中的具体应用。 通过光电子谱峰位 置、形状和强度,可以分析元素价态、含量。 角分辨XPS可以检测超薄样品表面的化学状态,成像XPS 可 以显示样品表面的元素和价态分布,从而进行微区分析。 利用氩离子刻蚀进行深度剖析,可以研究样品 化学状态随深度的变化关系。 关键词:X射线光电子能谱;表面分析;材料研究 中图分类号:TH838摇 摇 摇 文献标识码:A摇 摇 摇 文章编号:1001鄄3660(2014)01鄄0119鄄06 Application of X鄄ray Photoelectron Spectroscopy in Material Surface Research 1 1 2 1 YUJin鄄tao ,GUOZhan鄄cheng ,FENG Ting ,ZHI Xin (1.State Key Laboratory of Advanced Metallurgy,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China; 2.Metallurgical Experimental Center,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China) ABSTRACT:This paper briefly reviewed the principle and characteristics of XPS in surface analysis,and described its specific application in material research. Theposition,shape and intensity of XPSpeakscanbeusedfor determiningthe chemical valence and content of elements. Ultrathin sample canbe analyzedby the angle鄄resolvedXPSmethod. ImagingXPScould show the distri鄄 bution of element onthesurfaceof samplesanditschemicalvalence. Throughdepthprofilingusingargon鄄ionetching,thevariation of sample chemical statewith depth can be revealed. KEY WORDS:X鄄ray photoelectron spectroscopy(XPS);surface analysis;material research 摇 摇 在新型材料研发和制备进程中,材料表面性质的 分来自材料表面1~10个原子层深度范围内,对材料 研究一直占据重要的地位。 催化、腐蚀、吸附、表面改