CN107102388-CN201710517763-一种漫反射板的制作方法及漫反射板.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 107102388 A (43)申请公布日 2017.08.29 (21)申请号 201710517763.7 (22)申请日 2017.06.29 (71)申请人 中国科学院长春光学精密机械与物 理研究所 地址 130033 吉林省长春市经济技术开发 区东南湖大路3888号 (72)发明人 王龙　郑玉权　蔺超　 (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人 罗满 (51)Int.Cl. G02B 5/08(2006.01) G02B 1/14(2015.01) B24B 1/00(2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图1页 (54)发明名称 一种漫反射板的制作方法及漫反射板 (57)摘要 本申请公开了一种漫反射板的制作方法及 漫反射板，包括：对基底表面进行物理研磨工艺， 形成漫反射板本体；对漫反射板本体进行化学腐 蚀工艺，形成具有漫反射面的漫反射板；在漫反 射板的漫反射面上通过镀膜工艺形成反射膜。本 申请首先通过物理研磨的方式制作大尺寸高平 面度的漫反射板本体，然后通过化学清洁和腐蚀 的方法制作出漫反射特性良好的漫反射面，这样 制作出的漫反射板通过试验测试和初步应用，在 面均匀性、空间稳定性、反射率和朗伯特性等方 面均满足了要求，并且通过镀制反射膜可以提高 红外波段的反射率指标，提高表面稳定性，从而 A 可以达到空间红外波段光谱仪器中使用的应用 8 目的。 8 3 2 0 1 7 0 1 N C CN 107102388 A 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种漫反射板的制作方法，其特征在于，包括： 对基底表面进行物理研磨工艺，形成漫反射板本体； 对所述漫反射板本体进行化学腐蚀工艺，形成具有漫反射面的漫反射板； 在所述漫反射板的漫反射面上通过镀膜工艺形成反射膜。 2.根据权利要求1所述的漫反射板的制作方法，其特征在于，对基底表面进行物理研磨 工艺，形成漫反射板本体，具体包括： 采用至少三块相同的基底通过研磨砂以互相研磨的方式，形成至少三块漫反射板本 体。 3.根据权利要求2所述的漫反射板的制作方法，其特征在于，对所述漫反射板本体进行 化学腐蚀工艺，具体包括： 采用设定的腐蚀液、设定的化学反应温度和设定的反应时间对所述漫反射板本体进行 化学腐蚀工艺。 4.根据权利要求3所述的漫反射板的制作方法，其特征在于，在所述漫反射板的漫反射 面上通过镀膜工艺形成反射膜，具体包括： 对所述漫反射板进行镀膜工艺，所述漫反射板处于旋转状态； 在所述漫反射板的漫反射面上形成厚度均一的反射膜。 5.根据权利要求4所述的漫反射板的制作方法，其特征在于，在所述漫反射板的漫反射 面上通过镀膜工艺形成反射膜之后，还包括： 在所述反射膜上通过镀膜工艺形成保护膜。 6.根据权利要求2至5任一项所述的漫反射板的制作方法，其特征在于，所述基底和所 述反射膜的材料均为金属材料； 所述保护膜的材料为氧化物材料。 7.根据权利要求6所述的漫反射板的制作方法，其特征在于，所述基底材料为铝、银、镍 及其合金； 所述反射膜的材料为金； 所述保护膜的材料为二氧化硅。 8.根据权利要求7所述的漫反射板的制作方法，所述漫反射板的最大方向尺寸大于或 等于330mm。 9.一种漫反射板，其特征在于，所述漫反射板采用如权