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阳光控制镀膜玻璃 及其LOW—E玻璃阻挡层环评资料 阳光控制镀膜玻璃及其LOW-E玻璃阻挡层需要的镀膜气体主要种类有哪些？ 阳光控制镀膜玻璃及其LOW-E玻璃阻挡层需要的主要镀膜原料为：硅烷（SiH4） 辅助原料：乙烯（C2H4）、二氧化碳（CO2） 镀膜反应 SiH4 Si+2H2 主要镀膜原料的消耗量 硅烷气体：0.3841/m2 （0.35L/m2） 乙烯气体：0.101/m2 （0.020 L/m2） （实际0.15～0.10 L/重箱） 二氧化碳气体：0.7681/m2 主要原料的转化率 硅烷的转化率为40% （乙烯40%） 产尘量 本项目所用的镀膜气体是由硅烷、乙烯、二氧化碳、氮气按一定的比例混合而成的混合气体，其中氮气占90%以上。 粉尘主要由硅烷热分解产生的多晶硅粉尘和排出窑外与空气中的氧反映而生成的SiO2。 硅烷热分解40%转为膜层材料，其余部分（60%的硅烷）与窑内的氮气混合后形成废气排出窑外。镀膜废气中粉尘量：150g/h（210g/h）。 阳光控制镀膜玻璃及其LOW-E玻璃阻挡层处理粉尘所用的负压吸尘系统的工作原理及除尘效率？ 负压吸尘是高压水通过液体喷射器，在喷射器的被抽介质入口产生真空度。反应废气经排气管被抽进喷射器入口，与高压水混合后，一起进入循环水池槽内，粉尘与水形成悬浮液进入沉淀池，加絮凝剂沉淀回收，做其他材料的添加剂。不含粉尘的气体通过水槽上方的排气管道排出，进入排气烟囱排放。 除尘率：100% 废气量 从窑内抽出的总废气量为：40m3/h（200 m3/h）（650oC） 进入排气烟囱排放的主要废气为： N2 37.967m3/h C2H2 0.0003 m3/h （60mg/m3）（标准120mg/m3） CO2 0.03 m3/h H2 2 m3/h 排气烟囱高度25米；出口内径：80mm；废气进入排气烟囱的温度为：50Co LOW-E项目环评所需资料 废气吸收排放参考执行标准有: 大气污染物综合排放标准(一)、（二）、（三）GB16297--1996 污水综合排放标准(一)、（二）、（三） GB8978--1996 生产低辐射镀膜玻璃所需要的镀膜原料主要种类有哪些？ 主要镀膜原料是三氯单丁基锡（C4H9SnCL3 简称MBTC） 其它作为辅助原料（掺杂剂、催化剂）有： 水、空气、氮气、二氧化碳 镀膜反应 C4H9SnCL3+6O2＝SnO2+3CO2+CO+3HCL+3H2O 主要镀膜原料单位产品的消耗量（克/平方米） 主要镀膜原料三氯单丁基锡（C4H9SnCL3）的消耗量30克/平方米（35g/m2）， 主要原料的转化率 C4H9SnCL3的转化率：68％ 粉尘和锡化合物各自的产生量（公斤/小时） 在线镀低辐射膜项目采用的是化学气相沉积镀膜工艺。反应副产物经废气回收与处理系统的处理，未反应三氯单丁基锡大部分经冷凝回收循环使用；小部分经水洗塔吸收、碱液吸收，形成C4H9SnOOH氧化物不溶于水的沉淀固体。反应式为： C4H9SnCL3+NaOH→C4H9SnOOH↓+NaCL NaCL经水蒸发处理也成为沉淀，两种沉淀物均可掩埋处理。 从水洗塔里抽出的气体（无毒、无味、无污染）达标排放。在线镀低辐射膜玻璃工艺不产生粉尘。锡化合物的产生量（按5mm，板速420米/小时、有效镀膜板宽2250mm，单耗30克/平方米）计算为：镀膜用原料量28.35公斤/小时，按68％转化率，所以3000立方米/小时的废气中含C4H9SnCL3：9.08公斤/小时。 低辐射镀膜玻璃废气吸收排放系统的工作原理及废气污染物的去除效率？废气量？排气筒高度？出口内径？排气温度？ 废气吸收排放系统工艺处理图： .工作原理：废气的性质 在线低辐射镀膜玻璃的反应气体主要是由MBTC、微量水和 窑里抽出的废气量3000立方米/小时 换热器冷却 冷凝器 MBTC接收罐 水洗塔 废水处理釜 循环处理 鼓风机抽气 供水 回收循环使用 排气烟囱 高度大于25米 达标排放 碱洗 沉淀掩埋