微米纳米加工技术国家级重点试验室北京大学微电子学研究院李志宏.PDFVIP

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  • 2018-03-30 发布于天津
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微米纳米加工技术国家级重点试验室北京大学微电子学研究院李志宏.PDF

微米纳米加工技术国家级重点试验室北京大学微电子学研究院李志宏

微米纳米加工技术国家级重点实验室 北京大学微电子学研究院 李志宏 研究背景 q从微机电系统向纳机电系统发展是大势所趋 q纳米技术的实用化仍局限于纳米材料,纳米器件和系统仍 停留在实验室研究阶段,达不到应用水平 q纳米制造技术是关键和瓶颈问题 q纳米-微米结构集成是纳米器件发挥作用的主要途径 - 纳米结构起核心功能 - 微米结构起到纳米世界与宏观世界间的连接功能 自上而下的制造技术 (即Top-Down制造技术) 自下而上的制造技术 (Bottom-Up制造技术) 自上而下的制造技术 低成本高精 度的跨尺度 以微米为骨架结构 以纳米为功能结构 微纳集成制 造技术—— 无需使用纳 米光刻技术 自下而上的制造技术 p纳米森林结构 n具有纳米森林结构的表面特点 • 场发射 • 光电器件 • 超疏水 • 微流控器件 • 大表面面积 • 纳米能源器件 • 增强拉曼效应 pHow to get nano -forests? — “Bottom -Up” methods VLS, DPN, SAM (Large scale parameter control difficulty, Serial nature) ZnO nanowires grown by VLS Adv Mater 2001; 13: 113–6 VLS DPN SAM Nano Letters, 6(11), 2006, 2493-2498 Small, 5(24), 2009, 2807-2811 p基于氧等离子刻蚀工艺纳米森林结构 Nanofibers from negative PR standing on Si p复合材料纳米柱森林 Fabrication process of nanopillar forests Diversiform nanopillar forests W. Wu, et al. Nanotechnology ,2009 p利用黑硅效应的纳米森林结构 利用DRIE技术制备大面积 均匀可控的微纳复合结构, 已经申请发明专利:利用 无掩膜深反应离子刻蚀 (DRIE)工艺制备黑硅的

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