薄膜物理与技术-绪论幻灯片.ppt

薄膜科学涉及的领域： 薄膜科学的研究内容 涉及材料学、化学、物理化学、表面物理学、凝聚态物理学、电子学等内容。 界面和表面结构 薄膜的缺陷和固体扩散 薄膜的成核和生长 薄膜表面动力学 薄膜反应、界面扩散和界面迁移 薄膜物理性能 薄膜科学的研究内容 薄膜科学中的热点问题： 薄膜成长的过程与影响因素 蒸镀技术－热蒸镀、电子束蒸镀、离子束辅助蒸镀、分子束薄膜成长 溅镀技术－DC溅镀、RF溅镀、反应溅镀、磁控原理 化学气相镀膜技术－常压CVD、低压CVD、电浆辅助CVD 薄膜生长技术－材料匹配、应力层超晶格、低温生长 薄膜间的反应、相互扩散、电迁移等现象 薄膜分析方法－结晶结构、化学组成、表面及界面分析、显微分析 薄膜科学的基本概念 different from bulk materials Thin films may be: not fully dense under stress different defect structures from bulk quasi - two dimensional (very thin films) strongly influenced by surface and interface effects This will change electrical, magnetic, optical, thermal, and mechanical properties. 薄膜的特性： 薄膜科学的基本概念 Typical steps in making thin films: emission of particles from source ( heat, high voltage . . .) transport of particles to substrate (free vs. directed) condensation of particles on substrate (how do they condense ?) How do the variables effect film structure and properties ? 薄膜科学的基本概念 涉及的物理内容： thermodynamics and kinetics phase transition - gas condenses to solid nucleation growth kinetics activated processes desorption diffusion allowed processes and allowed phases 薄膜科学的基本概念 solid state physics crystallography defects bonding electricity and magnetism optics conductivity - resistivity magnetic properties mechanics stresses in films friction and wear 本课程的主要内容 薄膜的制备技术 蒸发镀膜技术 Vaporation 溅射镀膜技术 Sputtering 离子镀膜技术 Ion Plating 分子束外延技术 MBE Molecule Binding Epitaxy 化学气相沉积技术 CVD Chemical Vapor deposition LB技术 Sol-Gel技术 薄膜物理 本课程的主要内容 薄膜形成机理和物理模型 包括薄膜凝结过程、核形成和生长、生长模式等 薄膜结构和缺陷 包括薄膜的组织结构（非晶、纤维、单晶和多晶结构）、表面结构以及结构与组分的分析方法；缺陷类型（点缺陷、位错、层错等） 薄膜物理性质 电学、光学、磁学以及力学性质等 薄膜研究方法简介 薄膜厚度 光学测量法和机械测量法 薄膜结构 扫描电子显微镜、透射电子显微镜、 X射线衍射、低能电子衍射、反射式高能电子衍射、扫描探针显微镜等 薄膜成分 X射线能量色散谱、俄歇电子能谱、卢瑟福背散射技术、二次离子质谱等 薄膜附着力等分析 刮剥法、拉伸法等 本课程的主要内容 薄膜物理与技术Thin Film Physics and Technologies 李瑞山 兰州理工大学理学院 绪 论 薄膜科学的发展历史 薄膜的分类 薄膜科学的研究内容 薄膜科学的基本概念 本课程的主要内容 参考资料 杨邦朝，王文生. 薄膜物理与技术