热等离子体技术现状及发展方向3.pdfVIP

第 29 卷 　第 2 期 力　学　进　展 Vol. 29 　No. 2 1999 年 5 月 25 日 ADVANCES IN MECHAN ICS May 25 , 1999 热等离子体技术 : 现状及发展方向 E Pfender Department of Mechanical Engineering and ERC for PlasmaAided Manufacturing , University of Minnesota , Minneapolis , MN 55455 USA 摘 　要 　试图从以下 4 个方面对热等离子体材料加工现在以及将来的研究与发展进行评价 : ( 1) 热等离子体涂镀技术 ; (2) 热等离子体微细粉末合成 ; (3) 热等离子体处理废物 ; (4) 热等离子 体球化及致密化. 一般来讲 , 由于热等离子体加工由大量参数决定, 实行控制非常必要. 在某 些情况下 , 缺乏足够的控制以及经济方面的一些不利因素是热等离子体技术成长的主要障碍. 但是 , 目前的研究与开发工作正在致力于解决这些问题 关键词 　热等离子体技术评价 , 研究与开发 , 综述 1 　引 　言 　　热等离子体技术已从 60 年代最初的与空间有关的研究逐渐转到 80 年代和 90 年代越来越 着重以材料为中心. 空间科技的需要给热等离子体的基础研究与开发提供了强大的动力. 例 如 , 开发了功率水平从 1kW 到 10MW 以上的等离子体炬. 对等离子体/ 粒子相互作用和热等 离子体化学的研究则直到 80 年代初期才开始 , 虽然一些成功的应用这一时期在某些领域中早 已存在, 例如 , 电弧焊、电弧切割、一些特殊领域的等离子体微细粉末合成. 在此应该强调 , 电弧断路器和弧光灯的成功开发, 为我们对电弧的基本了解做出了贡献. 除了这些常见的应用之外 , 今天热等离子体技术已覆盖了很广阔的应用领域 , 并获得了新 的进展. 典型的有 : ( 1) 热等离子体涂镀技术 , 包括等离子体喷涂、电弧喷涂、等离子体化学 蒸气沉积 ( TPCVD) 技术 ; (2) 热等离子体微细粉末合成 , 特别是达到纳米级粉末的合成 ; (3) 热等离子体处理废物 , 特别是有毒废物 ; (4) 热等离子体使粉末致密化 ; ( 5) 热等离子体 冶金 , 包括用于大型炉的熔炼、再熔炼 ; (6) 热等离子体提取冶金技术. 本综述试图对以上领域的现状进行评价 , 并对热等离子体技术在下个世纪到来时在材料科 学和工程学的更广大范围可能起的作用做出推测. 由于篇幅的限制, 本文只讨论前面提到的热等离子体技术的前 4 个方面. 2 　热等离子体涂镀技术 　　此部分包括等离子体喷涂 、电弧喷涂和热等离子体化学蒸气沉积技术 ( TPCVD) . 　 本文是 1997 年 8 月 18 日～22 日第13 届国际等离子体化学学术会议的主旨报告 2·51 · © 1995-2004 Tsinghua Tongfang Optical Disc Co., Ltd. All rights reserved. 2 1 　等离子体喷涂 在过去的 35 年中 , 等离子体喷涂技术得到了很好的确立和广泛的应用 , 其范围从耐腐蚀、 耐热、耐