新结构D形光纤消逝场传感器-光学精密工程.PDF

第 卷 第 期 光学 精密工程 １６ １０ 　 Ｖｏｌ．１６ Ｎｏ．１０ 　 　 　　 　　　　 　 Ｏ ｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｉｎｅｅｒｉｎ 　　　 　　　 　 年 月 　 ｐ ｇ ｇ ２００８ １０ Ｏｃｔ．２００８ 　 　 　 文章编号 （ ） １００４９２４Ｘ２００８１０１９３６０６ 　 新结构 形光纤消逝场传感器 Ｄ ， １２ １ １ １ 庄须叶 ，吴一辉 ，王淑荣 ，宣 明 　 （ 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 应用光学国家重点实验室，吉林 长春 ； １． １３００３３ ２．中国科学院 研究生院，北京１０００３９） 摘要：为提高 形光纤消逝场传感器的灵敏度并改进制作工艺，对 形光纤的结构和制作方法进行了研究。通过加大 Ｄ Ｄ Ｄ 形光纤的研磨深度，增大了传感器的有效探测面积，并使消逝场能量可以直接与被测物质作用，避免了能量耦合的损耗， 提高了传感器的灵敏度。提出了采用机械研磨制作 形光纤的新方法，降低了制作成本。改进结构后， 形光纤消逝场 Ｄ Ｄ 传感器的灵敏度比旧结构传感器的灵敏度提高了 个数量级，是具有相同光程长度的直接光探测方法的 倍。测量 ３ １．２ 亚甲基蓝时的灵敏度达到 ，最低测量浓度在 －７ ／ 数量级，传感器的响应速度快，适合实时检测。结果表 ０．０４３５ １０ ｍｏｌＬ 明，改进结构的 形光纤传感器灵敏度高，可以实时地反映被测物的浓度变化。 Ｄ 关 键 词： 形光纤；光纤消逝场传感器；高灵敏度 Ｄ 　 　 中图分类号： ； 文献标识码： ＴＮ２５３ＴＰ２１２．２ Ａ 　　 犗狋犻犮犪犾犳犻犫犲狉犲狏犪狀犲狊犮犲狀狋犳犻犲犾犱狊犲狀狊狅狉犫犪狊犲犱狅狀狀犲狑狋犲犇狊犺犪犲犱犳犻犫犲狉 狆 狔狆 狆 ， １２ １