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电感耦合等离子体质谱测量同位素的技术进展
电感耦合等离子体质谱测量同位素的技术进展
辉永庆 龙素群 林涛
( 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 绵阳 621900)
摘要:本文介绍了电感耦合等离子体质谱(ICP-MS) 测量同位素的技术进展,并对样品前处
理方法以及ICP-MS 与同位素稀释法、氢化物发生技术、流动注射技术、色谱技术的联用进
行了评述。
关键词:电感耦合等离子体质谱,同位素,综述
同位素测量的传统方法主要为能谱技术,如α谱仪、γ谱仪等。近年来,
电感耦合等离子体质谱技术得到了极大的发展,该方法具有覆盖范围广,可以
-6
测量除氢,氦,碳,氧外的所有元素;检出能力强,检出限可以达到10 ng/g;
线性范围宽,超痕量浓度和高浓度样品可以同时测定;测量速度快,一般每个
样品测定时间仅需几分钟;容易和其它分析测量技术联用等特点。上述优点使
其成为同位素测量的重要的技术手段。
1 ICP-MS测量同位素的原理
ICP-MS是一种分析各种同位素并测量其质量及含量百分比的仪器。当一束
带电的原子核通过质谱仪中的电场和磁场时,凡其荷质比不相等的,便被分开。
S1和S2为两个狭缝,从离子源引出的离子受到施于S1及S2间的电位差V,在通
过S1到S2的路径上被加速,成为具有一定飞行速度的粒子束,进入磁感应强度
为B的匀强磁场区。正离子在这一磁场中运动轨道半径为r 。当离子走过一半圆
而抵达照相底片时会在它上面留下痕迹。其荷质比q/m与V、B、r关系见式(1)。
q 2V
2 2 (1)
m B r
ICP-MS测量同位素时,V、B为定值,所测元素的各种同位素电荷相同,
质量不同,使其在磁场中的运动轨道半径不同,从而使同位素得以分离并对其
丰度、质量分数进行测量。
2 ICP-MS测量同位素的技术发展
近年来,ICP-MS测量同位素的技术取得了很大的进展,包括ICP-MS设备
相关硬件技术的开发,样品分离富集技术,ICP-MS与其它测量技术的联用等。
2.1 ICP-MS硬件相关技术
[1-3]
Duersch 等 考察了等离子体屏蔽距、气溶胶静态起电、ICP 中颗粒大小分
[4] [5]
布等因素在ICP-MS 测量中的作用,Yamada 等 和Bandura 等 研究了DRC 反应
池中碰撞缓冲和反应对同位素比测定的影响,发现等离子体接口、等离子体屏
蔽距、反应池是影响检测灵敏度及抗干扰能力的主要因素。美国安捷伦公司开
发的 “Shiled Torch”高性能等离子体屏蔽炬技术,具有软提取功能、热焰超高
灵敏度功能、冷焰高性能去干扰能力等优点;珀金埃尔默公司的 “PlasmaLok
TM ” 接口技术,完全消除接口处的二次电弧放电,保证等离子体稳定,延长
采样锥寿命;因为所有的多原子干扰都比同等质量的分析物离子直径大,在碰
撞池中与碰撞气具有更大的碰撞几率,具有动能歧视效应,基于该原理,安捷
伦公司的第二代八级杆反应池(ORS)技术,采用氦 (He )碰撞模式,可以有效
的消除样品基体中大部分共存的多原子干扰;珀金埃尔默的DRC-ICP-MS ,在
DRC动态反应池内实现离子初步选择和过滤,大大延长了ICP-MS主四级杆质量
分析器的寿命,提高了ICP-MS 的性能和灵敏度。除此之外,激光烧蚀电感耦合
等离子体质谱(LA-ICP -MS)技术可以实现固体直接进样;多接收器等离子体质
谱(MC-ICP-MS)采用了高温高效的等离子体,具有比ICP-MS更高的灵敏度及抗
[6,7]
干扰能力,因此近几年来也得到了很大的发展及应用 。
2.2 同位素分离富集技术
在同位素的ICP-MS测量中,有一些核素测量会被样品基体中共存组分干
扰。对样品进
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