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AMC 控制技術-談化學濾網 黃蒨芸 康育豪 正研究員 研究員 工研院能環所 新竹縣竹東鎮中興路四段 195 號 64 館 前言： 半導體製程線寬不斷下降，進入奈米製程後 此為協助國內的半導體產業發展，維持技術領先， 對於製程環境的需求焦點從微顆粒污染轉移至更 實有必要發展國內自主的化學濾網技術。工研院 為小的氣相分子污染物(AMC ，Airborne Molecular AMC 化學濾網實驗室的設立係基於此背景，目的 Contamination) ，在 12”晶圓廠良率提昇上，AMC 在提供國內半導體業者一個測試化學濾網性能的 的防治是關鍵技術之一。使用化學濾網是關鍵的手 實驗站，協助業者建立 AMC 防治技術，以期在未 段之ㄧ。隨著石化業的進步，環境的污染物逐漸多 來建立化學濾網產業。除了專門針對半導體製程的 樣性；除了半導體製程外，在生活環境面、作業環 AMC 化學濾網測試外，此研究建立的技術也可作 境安全、環境保護等都面臨類似的氣態分子污染的 為一般氣體濾除濾網的應用。事實上隨著石化業的 問題，也因此氣體濾除濾網的使用越來越普遍。預 進步，環境的污染物逐漸多樣性；除了半導體製程 期未來相關的濾除與清淨裝置將會有大幅成長。氣 外，在生活環境面、作業環境安全、環境保護等都 態污染物的特性不同於微塵粒，所以處理的機制會 面臨類似的氣態分子污染的問題，也因此氣體濾除 截然不同。空氣污染控制技術已發展多年，多偏向 濾網的使用越來越普遍。其他在一般化學作業中逸 高污染濃度或排氣端的技術研發，亦不同於本文將 散的氣態化學物質對員工的危害也逐漸受到重 要述及的微量氣態污染處理技術。本文中將針對潔 視，因此預期未來相關的濾除與清淨裝置將會有大 淨室內製程環境及 IAQ （室內空氣品質）議題下微 幅成長。此 AMC 實驗室建立的目的主要在協助化 污染 AMC 的控制方法，包含化學濾網的應用、原 學濾網的技術開發建置的設備同時可提供我國產, 理及性能測試系統。國內廠商的 12”廠已陸續投 品公正實驗室驗證，掌握國際技術發展脈動，協助 產，產能也逐漸提昇，若能保持 12”技術的優勢， 廠商開發新產品技術，促進國內氣體濾除與清淨產 預期未來全球半導體的製造重心仍然會在台灣。但 業發展。 目前AMC 化學濾網的技術多由國外廠商掌握，因 AMC 議題： AMC 為 Airborne Molecular Contamination 的 質。由於隨著奈米科技的發展，半導體元件的加工 縮寫，由字面的意義來看其初始狀態為氣相且行為 線寬由 0.25μm 逐漸進入 0.18μm 甚至到 0.13μm 以 似單一分子的氣態污染物，為環境中有能力沈降於 下，製程環境中微塵粒子或空降分子狀污染物對產 材料表面上形成單分子層薄膜之氣態化學污染物 品良率影響也就更加顯著。污染控制的重點轉移到 1 分子的尺度，化學反應逐漸變成重要的污染效應之 ＊ B.P. 150° F (65.6° C) 一。 潔淨程度的表示法為：MX-N ，X ：污染物種 最常被引用的 AMC 分類方法為 SEMI 組織 N ：濃度（p