脉冲激光沉积制备TiN_AlN多层薄膜的研究.pdfVIP

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2018-04-29 发布于河南
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脉冲激光沉积制备TiN_AlN多层薄膜的研究.pdf

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脉冲激光沉积制备TiN_AlN多层薄膜的研究

光电子 ·激光第 2 1 卷第 6 期　20 10 年 6 月　　　　　　 Vol . 2 1 No . 6 　J un . 20 10 Journal of Optoelectronics ·Laser 　　　　　　　　 ① 脉冲激光沉积制备 TiN /Al N 多层薄膜的研究 1 ,2 1 1 2 1 唐普洪 , 宋仁国 , 柴国钟 , 王道宏 , 熊京远 (1. 浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室 ,浙江杭州 310014 ; 2. 嘉兴职业技术学院,浙江嘉兴 314036) ( ) 摘要 :采用脉冲激光沉积 PLA 法 ,在单晶 Si 试样表面沉积制备了一系列 TiN/ AlN 硬质多层膜 ,并采用基于免 ( ) 疫算法的免疫径向基函数 IRBF 神经网络对 AlN 厚度建立预测模型 ,设计出具有可控调制周期和调制比的 ( ) TiN/ AlN 多层膜。X 射线衍射 XRD 结果表明,小调制层周期下 ,过高或过低的工艺条件下薄膜通常为非晶态 ,适当的工艺条件下 TiN 、AlN 形成具有强烈织构的超晶格柱状晶多层膜;与此相应 ,纳米多层膜产生了硬度和弹性模量异常增高;随着调制比增加 ,使纳米多层膜形成非晶AlN 层和纳米晶 TiN 层的多层结构 ,多层膜的硬度和弹性模量逐渐下降。XPS 结果表明,薄膜界面由 Ti+ 4 、Ti+ 3 离子组成 ,N 的负二价、三价亚谱结构预示着非当量 TiN 、AlN 的形成。AFM 研究显示 ,薄膜的调制周期均在 10～200 nm 范围内,且薄膜表面较均匀;当多层薄膜调制周期在 50 nm 以下时,薄膜的纳米硬度值明显高于 TiN 和 AlN 的混合硬度值 ,达 30 Gpa 。 ( ) ( ) 关键词 :脉冲激光沉积 PLA ; 多层膜; TiN/ AlN ; 免疫径向基函数 IRBF ( ) 中图分类号:O484 　　文献标识码 :A 　　文章编号 2010 A study on TiN/ Al N multilayer thin f ilms prepared by pulsed las