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如何将光反射器 与滤波器写入光纤？ 哈尔滨工程大学理学院 光子科学与技术研究中心 2007年3月 5.1光纤光栅 1978年，K.O.Hill等人首先发现搀锗(Ge)光纤的折射率能够在某些波长的光照射下发生周期性的永久性改变，人们很快意识到可以利用这种特性在光纤中制作光纤光栅，这成为光纤光栅研究的起点。1989年，G.Meltz等人首次采用全息干涉法，制出第一支布拉格谐振波长位于通信波段的光纤光栅，从此推动了光纤光栅的巨大发展。目前光纤光栅在光纤通信和光纤传感领域内均引起了革命性的变化。凭其诸多优点，使许多复杂的全光通信和传感网络成为可能，也就越发显示出它在信息领域的重要地位。 5.1光纤光栅 光纤光栅的光学特性 5.1光纤光栅 5.1光纤光栅 5.1光纤光栅 光纤光栅的理论分析 5.1光纤光栅 5.1光纤光栅 5.1光纤光栅 5.1光纤光栅 5.1光纤光栅 5.2长周期光纤光栅 5.1长周期光纤光栅 5.1长周期光纤光栅 5.1长周期光纤光栅 5.1长周期光纤光栅 5.1长周期光纤光栅 5.3光纤光敏性 5.3光纤光敏性 5.3光纤光敏性 5.3光纤光敏性 5.3光纤光敏性 5.3光纤光敏性 5.3光纤光敏性 5.3光纤光敏性 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.4光纤光栅制作 5.5光纤光栅的调谐 5.5光纤光栅的调谐 5.5光纤光栅的调谐 5.5光纤光栅的调谐 5.5光纤光栅的调谐 5.5光纤光栅的调谐 5.5光纤光栅的调谐 5.5光纤光栅的调谐 5.5光纤光栅的调谐 5.6光纤光栅的应用 5.6光纤光栅的应用 5.6光纤光栅的应用 5.6光纤光栅的应用 5.6光纤光栅的应用 5.6光纤光栅的应用 5.6光纤光栅的应用 5.6光纤光栅的应用 5.6光纤光栅的应用 5.6光纤光栅的应用 光纤Bragg光栅静态应变传感网络应用Kaiser Bahnhof 现场 系统现场应用一：3F-corinth 项目 地震测量 光纤光栅温度传感器TMS-01 4） 相位掩模法 相位掩模板（Phase Mask）是衍射光学元件，用以将入射光束一分为二+1级和-1级衍射光束，它们的光功率电平相等，两束激光相干涉并形成明暗相间条纹，在相应的光强作用下纤芯折射率受到调制。相位掩模板是一个在石英衬底上刻制的相位光栅，它可以用全息曝光或电子束蚀刻结合反应离子束蚀刻技术制作。它具有抑制零级，增强一级衍射的功能。因此，对光源的相干性要求不高，简化了光纤光栅的制造系统，其主要缺点是不同Bragg波长要求不同的相位掩模板，并且，相位掩模板的价钱较贵。该方法大大简化了光纤光栅的制作过程，是目前写入光栅常用的一种方法。 5）在线成栅 南安普顿大学的L Dong等人采用脉冲单点激射的方法，首次实现了在光纤拉制过程中写入光纤光栅的实验。如图所示。它是光纤拉制过程中在裸光纤上直接写入光栅，接着进行涂覆，从而避免了光纤受到额外的损伤，保证了光栅的良好强度和完整性。 6） 聚焦离子束写入 利用聚焦离子束(Focused Ion Beam：FIB)可以写入任意的光纤光栅结构[15]，FIB既可以用研磨方式，也可以用沉积方式。研磨光栅基本结构如图8所示，光栅研磨出的槽离纤芯只有几m，研磨15—20个槽就可获得高的反射率，槽数越多反射越大。其实验步骤是：第一步，先剥去涂敷层，除去包层较厚的部分；第二步，固定光纤以便刻蚀和放入真空室研磨，光栅结构要研磨得靠近纤芯。研磨方法简单但实现不易，常用的方法是用氢氟酸腐蚀掉部分包层后开始研磨，但光纤研磨下来的物质充电沉积在研磨区，将会降低研磨效率，并且由于材料的再沉积，槽的深宽比将被限制在一个较小的值。研磨时间取决于研磨材料和束电流。这种方法的关键是要解决工艺难度，才有可能获得广泛的应用。 1）振幅掩模法 2.长周期光纤光栅的制作 2） 电弧感生微弯法 利用电弧导致的永久微弯制造灵活剖面控制的LPFG，如图所示。光纤去除护套后，用两个相距5.5cm的夹具笔直固定，然后将一个夹具沿与光纤轴向正交的方向向下位移大约100m，从而在光纤上产生一个横向的应力。电弧在某一点放电时，在剪切应力的作用下产生微弯，微弯的幅度典型值小于1m，用这种方法制作的光栅谐振波长只与光栅周期有关，而与耦合强度无关，所以光栅的中心波长、反射率等特性易于控制。 3） 残余应力释放 在芯径是纯二氧化硅、包层内掺氟的光纤中，被拉伸时由于光弹效应在高粘度的芯径区引入了残余