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铁(Fe)在铬(Cr)膜上
Iron at Thin Chromium Film
铁(Fe)在铬(Cr)膜上
概述(SUMMARY):这个说明是用来描述在玻碳电极上镀铬(Cr)膜分析铁(Fe)浓度的。通过加入H-Mask可以掩盖铜(Cu),铅(Pb),锌(Zn)所带来的干扰。
最低检测限(LOWER DETECTION LIMIT):通过软件VAS操作这台仪器,最低检测浓度达5PPb.
重现性(REPRODUCIBILITY):当溶液中铁(Fe)的浓度是100 PPb的时候,分析这个溶液5次以上,相对标准偏差少于5%。
出现峰的位置(PEAK POTENTIAL):(-650 ~ -350) mV
已知干扰物(KNOWN INTERFERENCES);尽管使用H-Mask,高浓度的镍(Ni),钴(Co),铜(Cu),铅(Pb),锌(Zn)仍然会干扰分析。
电解质(ELECTROLYTE):H-Mask和CLAC合用。将一瓶CLAC倒进一瓶500mL的电解稀释液A。
标准(STANDARD):Fe (20 ppm)
电镀液(PLATING SOLUTION):Cr (20 ppm)
其它试剂(OTHER REAGENTS):H-Mask,去离子水以及电极调节液A(NaOH)
运行参数(RUN PARAMETERS):
Figure 1. PDV6000plus run parameters
图1(Figure 1)中运行参数的累积时间(Deposit time)和电流范围(range)是可以改变的,这两个参数的大小取决于样品中铁(Fe)的浓度。参数的设置可以参考表1(Table 1)。
样品浓度范围
(ppb) 标准浓度
(ppb) 累积时间
(seconds) 电流范围
(μA) 5-20 20 300 50 20-100 100 120 50 100-500 500 60 200 400-800 800 60 200 800-2000 (2 ppm) 2000 30 800 2000-8000 (8 ppm) 8000 10 800 表1(Table 1). PDV6000plus建议标准浓度(standard concentration),累积时间(Deposit Time),电流范围(current range)的设置要根据样品的所在浓度范围(sample concentration range)选定。
注意:
被建议的采用的标准浓度(standard concentration),累积时间(Deposit Time),电流范围(current range)来测定样品中的离子的浓度,见(Table 1)。这些值是根据the PDV6000 和PDV6000plus使用的经验以及电极敏感的范围得出的。
最佳值的出现取决于专有电极的特性。使用者要依据经验判定。理论上来看,标准浓度值的选定越靠近样品的实际浓度越好。电流范围的大小应大于或者等于样品产生的电流。
分析过程(ANALYTICAL PROCEDURE):
下面所描述到的操作细节同样存在于PDV6000plus操作说明书上(the PDV6000plus Operation Manual)。
电极的调节和电镀(Electrode Conditioning and Plating)
清洗玻碳电极之后,用抛光液(Polishing Kit)打磨电极表面。打磨完后,用去离子水清洗电极。
把电极放到电极调节液A(或者1M NaOH 溶液)浸泡20秒。
用去离子水清洗电极,然后把电极放回分析槽,重新把所用的电极连接好。
拿一个干净的分析杯装入20mL的去离子水,把它放到分析槽里面,接着运行仪器清洗功能(可以使用软件VAS里面的清洗按键或者按住仪器的重置按钮(reset)5秒)
在一个干净的分析杯中加入20 mL浓度为20 ppm铬电镀液(Chromium Film)。在电镀电位为–1600(mV)电镀5分钟。
运行空白(Run Blank)
清洗电极
在一个干净分析杯中加入10 mL的CLAC和0.2mL的H-Mask以及10 mL的去离子水。使用上面所提及的参数并依据估计的样品浓度及(图1)选定累积时间和电流范围。把这个溶液当一个空白来分析。
运行标准(Run Standard)
8. 根据需要,在一个杯子中使用20 ppm Fe 标准液(见Table 1)配制相应的浓度。把这个溶液当成一个标准溶液来分析。参数设置和分析空白的相同。
运行样品(Run Sample)
9. 清洗电极两次
10. 在一个分析杯中加入10 mL o的 CLAC 电解液和0.2 mL的 H-Mask以及10 mL的样品溶液。分析这个溶液选用和分析标准的参数一致。
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