先进电镜技术.ppt

高分辨观测技术—介绍各种显微测量技术： 光学显微镜(LM)—FML（远场）、材料系（近场） 扫描电子显微镜(SEM)—FML,材料系,力学所 聚焦离子束技术(FIB)—中科院物理所、北大电镜中心 透射电子显微镜(TEM)--材料系、分析中心 扫描探针显微镜（SPM-AFM， STM）--FML 光学显微镜原理图 光学显微镜的最小分辨距离 为 0.2微米 特点: 一次成像 结果: 被放大的物体像 在空气中测量，操作简单、方便，具有广泛用途。 一般适用于微米量级观测。 近场光学显微镜 （Scanning Near-field Optical Microscope） 80年代后期发展起来的新型显微技术 最小分辨距离为 0.1微米 近场和远场 物理学家把探针与样品之间的距离小于几十纳米的范围称为近场，而大于这个距离的范围叫做远场。 近场光学显微镜、STM、AFM等都是利用探针在样品表面的几个纳米到几十纳米距离范围进行扫描测量的方法，属于近场方法。 光学显微镜、电子显微镜等远离样品表面进行观测的方法称为远场方法。 物体受光波照射后，离开物体表面的光波分为两种成份： 一部分光向远方传播，这是传统光学显微镜能接收的信息； 另一部分光波只能沿物体表面传播，一旦离开表面就很快 衰减。这部分在近场传播的光波又叫隐失波。隐失波携带 有样品表面细节信息. 近场光学显微镜是借助于SPM设计思想的出现新型光学测量 设备. 近场光学显微镜的基本原理 近场光学显微镜的原理 将一个同时具有传输激光和接收信号功能 的光纤微探针移近样品表面，当控制光纤 探针在样品表面扫描时，探针一方面发射 激光在样品表面形成隐失场，另一方面 又接收几十纳米范围内的近场信号。探针接收到的近场 信号经光纤传输到光学镜头或数字摄像头进行处理，还原成 测试区域的图象等信号,得到表面形貌。 探针的尖端(未镀金属层)部分用于在微区 发射激光和接收信号。 微探针表面除了尖端部分以外均镀有金属层（蓝色）以防止 光信号泄露，?? 蓝色为金属镀层 透射式扫描近场光学显微镜原理示意图 PMT-光电倍增管 点光源 光源移动系统 光学成像系统 载物台 图像处理系统 计算机 透射式扫描近场光学显微镜系统的构成 OLYMPUS近场光学显微镜 微米光栅的形貌（1.7?m) 近场光学显微镜图像 近场光学显微镜图像的解释 通过逐点扫描方式，将每一点局域的像，进行 重构得到整个物体的像。二次成像. 结果： 得到是物体的放大的像(X-Y)，如果将载物平台 上下移动(Z),将不同Z断面的图像通过软件进行重构,可以 得到物体表面三维立体像. 优点： 在大气下操作，实验简单，成本低。 高分辩率电镜技术 扫描电子显微镜(SEM,德国Von Ardenne 在 1930 年 发明，1965 年正式在英国发售) 聚焦离子束技术(FIB, 在20世纪70年代出现液体金属 离子源的商用设备) 透射电子显微镜(TEM,1936年英国制造出第一台商用的 TEM) 物体在真空环境下的表面测量设备 SEM结构组成： 镜筒：电子枪(电子枪: 用来发射和加速电子)、聚光镜、 扫描线圈、电磁透镜、样品台（放置试件）、信号探测器 真空系统：机械泵和扩散泵（在形成真空环境，真空度: 10-6-10-8Pa) 图像显示系统（采集和显示图像） 供电系统：5kV-30kV SEM按电子枪分类: 钨丝电子枪:分辨率5-6nm 六硼化镧电子枪:分辨率5-6nm 场发射电子枪: 分辨率最高可达2nm 电子束入射到试件表面后所产生的信号: 二次电子: 在单电子激发过程中被入射 电子轰击出试样的电子（5nm)； 背散射电子:入射电子进入试样, 被表层原子散射后从原表面反射 回来的电子(几十纳米到100纳米）； 吸收电子:入射电子进入试样,经过 多次非弹性的散射,能量耗尽,被 试样吸收。 SEM真空室内有专门的探头接收相关信息。 用途: 分析形貌和成份。 分辨率：?6nm 放大倍数： x20-20万 试样: 导电 信息:试样表面形貌 电子束在经过两次聚光后变细, 在扫描线圈的作用下在试件 观测区表面扫描, 产生二次电子、背射电子、吸收电子, 如探测器的扫描 频率与扫描线圈频率相同, 相当于电子束在试件和探测器输出端的CRT作 同步扫描, 得到物体表面的完全对应形貌像(二次成像). SEM于成像的特点：边扫描边采集形貌数据信息(二次成像) SEM测量原理 镜筒 S550岛津SEM 微纳米力学实验室 镜筒：电子枪(电子枪: 用来发射和加速电子)、聚光镜、扫描线圈、电磁透镜、样品台（放置试件）、信号探测器 型号：日本电子（JEOL）JSM-6300分辨率：3.5nm (35kv,WD=8mm)放大倍数