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2006全国荷电粒子源粒子束学术会议文集 100型MEVVA源注入机注入均匀性研究 吴先映1 李强 张荟星 刘安东 彭建华 射线束技术与材料改性教育部重点实验室，北京师范大学低能核物理研究所，100875 vacuum_are，MEWA)离子源注入机的注 摘要l提高金属蒸汽真空弧(垒堑talvapor 入效率，大幅度降低注入成本是MEVVA源离子注入技术实用化的关键。为 此开展了100型MEVVA源注入机大批量注入均匀性的研究。本文介绍了100 型MEVVA源注入机的靶室结构和靶盘分布，研究了靶盘公转自转、00定位 自转、450定位自转的注入离子浓度分布。之后通过对几种注入方式的拟合 计算来确定复合注入的注入比例。最后通过实验研究了靶盘不同运动状态的 复合注入，得到了相当均匀的注入效果。 关键词：金属蒸汽真空弧，离子注入，00定位，450定位，注入均匀性 1．引言 离子注入材料表面改性是一种独具特色和很有发展前途的材料表面处理技术，已经在许多精 密、关键和高附加值的工模具和零部件的实际应用中取得了明显的进展【l五31。有些已经在产业部 门中得到推广应用，改性效果十分明显，已被采用为常规处理工艺。由于金属蒸汽真空弧(一Metal xaporvacuum_are，MEWA)离子源具有束流强、离子种类多、纯度高、电荷态高、引出电压高以 及多孔大面积引出的特点，MEWA强流金属离子注入被誉为新一代的离子注入技术[41。它对离 子注入材料表面改性研究与应用已经并正在发挥重要而深远的影响。大家知道，一种高新技术的 推广应用主要取决于该技术的经济效益和社会效益，MEWA源离子注入技术也不例外。因此， 降低MEWA源离子注入技术的成本，提高注入效率是该技术能够得到推广应用的前提。为此， 可以在两个方面的开展工作，一方面研制束流更强、面积更大的MEWA离子源注入机，形成强 大的注入处理能力；另一方面研究更有效利用MEWA离子束的方法，以实现低成本离子注入的 目的。本文介绍了对100型MEWA源注入机注入均匀性的研究和有效利用离子束实现大批量均 匀注入的方法。 2．100型MEv、後源注入机靶室及靶盘分布 图1是100型MEVVA源注入机的真空靶室顶视图。图中，1为靶室门，2为抽气泵阀门接 高1210mm。靶室上部侧面有两个100型MEVVA源接口，靶室侧面有真空泵口和装卸样品的大 门。此外预留了两个小接口备做它用。靶室的底部有样品靶盘的转动接口，一个公转，一个自转。 mm。 靶室由无磁不锈钢制作，厚度10 在真空靶室中配备有四个810mm直径的靶盘和四个320mm直径的靶盘。总靶盘面积达 2．4535m2。设计承载样品总重量达3．827吨。靶盘的布置如图2所示。八个靶盘可以同时公转自 转或者定位自转。靶盘定位自转有两种位置，一种是束斑中心正好与一个大靶盘中心重合，束斑 照射在大靶盘上，我们称之为0。定位，如图2a。另一种是靶盘从00定位位置绕靶室中心转动450， 束斑中心落在两个大靶盘之间，靶室中心与小靶盘中心的连线上。这时，束斑照射在一个小靶盘 和两个大靶盘的一部分上。我们将这个位置称为45。定位，如图2b。 1国家“八六三”计划项目(AA338020)，北京市科技新星A(H020820990120) 第一作者：吴先映，E-mail：xywuhome@sohu．c．om．Tel．Fax．：010 2006全国荷电粒子源粒子束学术会议文集 图1 100型MEWA源注入机的靶室顶视图 l为靶室门，2为抽气泵阀门接口，3为大靶盘，4为小靶盘，5是真空室，6是100型MEWA源接13 图2a100型MEVVA源注入机靶盘布置图．O。定位图2b100型MEVVA源注入机靶盘布置图．450定位 3为大靶盘，4为小靶盘 3为大靶盘，4为小靶盘 3．100型MEWrA源注入机注入均匀性 实验在100型MEWA源注入机的大靶盘上放置铝条，然后在铝条上注入钛离子。最后通过 PIXE分析得到铝条不同位置处钛离子浓度分布