第四章 反求工程CAD建模中.ppt

第四章 反求工程CAD建模中的特征与约束理论 4.1 反求工程中特征的定义、分类与表达 4.2 反求工程中约束的定义、分类与表达 4.3 反求工程中点云数据的二次曲面特征提取 4.4 反求软件与系统的数据接口 4.1 反求工程中特征的定义、分类与表达 反求工程中特征的定义 反求工程中特征的分类与表达 不同特征层次之间的映射关系 基于特征及约束的反求建模框架 反求工程中特征的定义 基于测量数据提取的用于反求工程CAD建模重建的点、线、面以及它们满足特定约束关系下的组合或复合。 反求工程中特征的分类 底层提取特征 高层组合特征 反求造型特征 底层提取特征 是直接由测量数据提取的点、线、面等简单的几何要素,是构成高层组合特征的基本几何单元。 反求底层特征主要包括平面曲线、空间曲线及曲面。 平面曲线 主要包括2D点、2D直线段、二次曲线段(包括圆弧和整圆、椭圆弧和椭圆、抛物线段、双曲线段)、平面样条曲线及曲线等。 空间曲线 主要包括3D点、3D直线段及样条曲线等; 曲面特征 主要包括平面、二次曲面(包括球面、圆柱面、圆锥/台面、双曲面、抛物面、椭球面和椭圆柱面)、曲面(有理和非有理)、样条曲面与NURBS曲面等 高层组合特征 反求工程建模的高层特征可以是底层特征的组合,亦可是底层特征的直接应用,它包括截面形状特征、特征单元及部分反求底层特征(纯自由曲面、3曲线等)。 基于测量数据重构的截面形状特征相当于参数化造型系统中施加完备约束的二维草图,是构造参数化特征几何体的基础。截面形状特征是由一系列线段首尾相连的组合曲线(环),但它决不是平面基本几何单元的简单叠加,而是底层特征满足特定约束条件(尺寸约束、结构约束)下的复合。在参数化造型系统中,参数化技术主要集中在二维参数化,三维特征的形状参数化取决于轮廓线的参数化。因此,要在反求工程中重建参数化特征模型就必须首先重建二维截面形状特征。 三维参数化一般是基于二维轮廓参数化实现的,直接的三维参数化技术主要集中在基本的三维空间体素的建立上,如立方体、长方体、柱体与锥体等。体素一般是由满足垂直、平行等拓扑约束的二次曲面(半空间)包围而成,因此可以基于底层的二次曲面特征进行重建。 造型特征 反求工程高层特征通过旋转、扫描、蒙皮、拉伸等造型工具形成造型特征,并基于造型特征进行参数化特征造型。不同的参数化建模软件对特征的分类方法不同,因此,反求工程的造型特征分类没有统一的方法,但其实质是参数化特征造型中的形状特征。 4.2 反求工程中约束的定义、分类与表达 反求工程重建中的约束是反求底层特征之间满足特定的几何约束关系。 约束的表达 C=(T,O1,O2,V) 式中: C表示约束; T表示约束类型; O1,O2分别表示约束对象; V表示约束值。 约束值V的数据类型 约束值V的数据类型可以是整型或实型 整型代表结构约束,体现了对某种几何拓扑结构关系的肯定,是一种属性关系,不含数量关系； 实型代表尺寸约束,是数量上的关系。约束值有正负号,以体现约束的方向。 反求工程常见约束分类及表达 4.3反求工程中点云数据的二次曲面特征提取 二次曲面拟合 二次曲面特征区域分割 二次曲面拟合 平面方程用ax+by+cz+d=0表示,可通过求解线性方程组Ax=0拟合平面。其中, 在方程两边同乘AT,得到ATAX=0,ATA的最小特征值对应的特征向量即是待求平面方程系数(a,b,c,d)。 二次曲面拟合 球面用方程表示x2+y2+z2+ax+by+cz+d=0,可通过求解线性方程组Ax=B来拟合球面。 线性方程组的求解采用奇异值分解法,其中A和x同平面拟合中的A和x,而 二次曲面拟合 球面用方程表示x2+y2+z2+ax+by+cz+d=0,可通过求解线性方程组Ax=B来拟合球面。 线性方程组的求解采用奇异值分解法,其中A和x同平面拟合中的A和x,而 区域分割 目前,基于实物样件点云数据的区域分割方法主要有:基于边的方法(edge-2based)和基于面的方法(surface-based) 基于边的方法是从纯数学的理论出发,认为测量点的法矢或曲率的突变是一个区域与另一个区域的边界并将封闭边界的区域作为最终的分割结果该方法对于边界的确定仅用到边界的局部数据,受测量噪声影响较大,并且对型面缓变或圆角半径较大的曲面往往存在边界找不准的局限。 基于区域生长的分割方法目前较为常用,其指导思想是将具有相似几何特征的空间点划分为同一区域。 4.4 反求软件与系统的数据接口 系统间接口分为专用接口和通用接口两类。 专用接口是某软件系统为另一个特定的系统提供的转换接口,它效率高、出错率低,但仅能对一种系统起作用,而且往往作为单独的模块出售。 通用接口是一种作为中间数据交换格式的数据标准规范,目前常用的