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1.0 Basic Wavefront Aberration Theory For Optical Metrology ;The Principal purpose of optical metrology is to determine the aberrations present in an optical component or an optical system.光学测量的主要目的:光学元件或系统
To study optical metrology the forms of aberrations that might be present need to be understood.可能存在的像差形式;For most optical testing instruments, the test result is the difference between a reference (unaberrated) wavefront and a test (aberrated) wavefront.检测设备检波像差
We usually call this difference the Optical Path Difference (OPD).波像差的形成原因,基本形式,怎样消除呢?;1.1 Sign Convention;The distance is positive if measured from left to right.
The angle is positive if it is in counterclockwise direction relative to Z axis.与工程光学上不一样吧!;Finite conjugate;;For aberration free system, the PSF will be the square of the absolute of the Fourier transform of a circular aperture and it is given in the form of 1st order Bessel function.;The fraction of the total energy contained in a circle of radius r about the diffraction pattern center is given by:;r;Generally a mirror system will have a central obscuration. If e is the ratio of the diameter of the central obscuration to the mirror diameter d, and if the entire circular mirror of diameter d is uniformly illuminated, the power per unit solid angle is given by好像讲的是遮挡率问题; ,? is in lp/mm;Features:
Mirrors aligned on axis
Advantages:
Simple and achromatic消色差的
Disadvantages:
Central obscuration and lower MTF
Smaller FOV with long focal length;;Defocus;;;;;1.4 Transverse and Longitudinal Aberration;Wavefront aberration is the departure of actual wavefront from reference wavefront along the RAY.;1.5 Seidel Aberrations;;If look at the optical system from the rear end, we see exit pupil plane and image plane.;Wavefront Aberration Expansion;Classical Seidel Aberrations;W000;W000;Field Curvature;Distortion;Astigmatism;Coma;Warren Smith, Modern Optical Engineering, P65;+;Through-focus Diffraction Image
(With Spherical Aberration);Wavef
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