2.2.4超精密加工技术.ppt

第二章 光學 2.1 光學基本原理 2.2 光學元件製作 2.3 光學基礎量測 ⊙參考文獻 2.1 光學基本原理 2.1.1 幾何光學基本定律與光線追跡 2.1.2 光學像差理論 2.1.3 干涉 2.1.4 繞射 2.1.5 光的偏振 2.1.1 幾何光學基本定律與光線追跡 (1)六個重點 (2)近軸光線追跡 (3)入瞳和出瞳之位置與大小 (4)真實光線追跡 (5)範例：三片鏡組 (6)真實像差分析 2.1.1 幾何光學基本定律與光線追跡 光在均勻介質中，以一直線進行，且其光程為可逆。 光在介面反射時，入射角等於反射角(反射定律)。 光穿透不同介質時會發生折射。 史耐爾定律(Snell’s law) n1sinθ1=n2sinθ2 2.1.1 幾何光學基本定律與光線追跡 反射及折射 2.1.1 幾何光學基本定律與光線追跡 (1)六個重點 第1主點(principal point)與前焦點(focal point) 第2主點與後焦點 第1節點與第2節點(nodal point) 2.1.1 幾何光學基本定律與光線追跡 (2)近軸光線追跡 光線以小角度入射一鏡組時，光線會非常靠近光軸，光線折射定理可表示為n1θ1=n2θ2，以簡化光線追跡之複雜性。 2.1.1 幾何光學基本定律與光線追跡 (3)入瞳(entrance pupil)和出瞳(exit pupil)之位置與大小 光學系統有一光圈存在，而光學系統擋光最多的地方即光圈位置，入瞳(entrance pupil)為從物方所看到光圈影像，而出瞳(exit pupil)為從像方所看到光圈影像。 成像系統有兩條代表性光線，一為主光線(chief ray)、另一為邊緣光線(marginal ray)。 2.1.1 幾何光學基本定律與光線追跡 入瞳(entrance pupil)和出瞳(exit pupil)之位置與大小 2.1.1 幾何光學基本定律與光線追跡 (4)真實光線追跡 利用追跡公式，追跡至像面上，以主光線為參考點，其他光線在像面上至參考點距離即為真實像差。 2.1.1 幾何光學基本定律與光線追跡 (5)範例：三片鏡組 2.1.1 幾何光學基本定律與光線追跡 (6)真實像差分析 2.1.2 光學像差理論 (1)色散像差 (2)單色光像差 (3)像差的校正 2.1.2 光學像差理論 光學像差可分成2大類 (1)因光線在透明介質隨不同波長而偏折角度不同所產生之色散像差(chromatic aberration)，包括縱向色差與橫向色差 (2)因透鏡形式所產生之像差，包括球面像差(spherical aberration)、慧星像差(comatic aberration)、斜射像散(astigmatism)、視場彎曲(curvature of field)與畸變(distortion) 2.1.2 光學像差理論 (1)色散像差 光線在透鏡內行走，其折射率會隨光的不同波長而改變，造成透鏡焦距隨光的波長改變而有縱向色差、且透鏡成像放大率隨光的波長改變而產生橫向色差。 2.1.2 光學像差理論 (2)單色光像差 在近軸區以外，單片透鏡所成之像與近軸之理想像相差甚大。即使在近軸區內，單片透鏡亦無法使白色之各成分波長同時聚焦於一點。 2.1.2 光學像差理論 (3)像差的校正 討論光學系統的初階設計，如共軛成像位置、光闌位置、放大率或相對孔徑，利用薄透鏡和其組合的近似特徵，可以簡化許多不必要的細節而得到非常滿意的系統數據。 2.1.3 干涉 (1)前言 (2)光的波動性質 (3)惠更斯原理 (4)疊加原理 (5)光的干涉 (6)薄膜的顏色 2.1.3 干涉 (2)光的波動性質 2.1.3 干涉 (3)惠更斯原理 2.1.3 干涉 (4)疊加原理 2.1.3 干涉 (5)光的干涉 2.1.3 干涉 (6)薄膜的顏色 2.1.4 繞射 當光遇到障礙物時，它會繞過障礙物而沿曲線進行傳播。 2.1.5 光的偏振 光是一種電場的振動。 2.2 光學元件製作 2.2.1 傳統光學元件製造技術 2.2.2 塑膠射出成型 2.2.3 精密玻璃模造技術 2.2.4 超精密加工技術 2.2.5 微光學元件製作 2.2.1 傳統光學元件製造技術 (1)概論 (2)選胚、切割與圓整 (3)成形 (4)研磿∕拋光原理 (5)拋光 (6)定心 (7)塗保護膜、冷凍脫膜與清洗 (8)精度檢驗 (9)結論 2.2.1 傳統光學元件製造技術 (1)概論 傳統光學鏡片製作方式依用途可分透鏡、反射鏡、及稜鏡等製作。 2.2.1 傳統光學元件製造技術 (2)選胚、切割與圓整 選擇毛胚時，必須將厚度之耗損量、外徑、修邊量及材質等加入加工考量，一般而言材料的耗損量是忥愈少愈好。 2.2.1 傳統