利用超短脉冲激光制作硅表面微结构的分析-analysis of fabricating silicon surface microstructure by ultra-short pulse laser.docxVIP

利用超短脉冲激光制作硅表面微结构的分析-analysis of fabricating silicon surface microstructure by ultra-short pulse laser.docx

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
利用超短脉冲激光制作硅表面微结构的分析-analysis of fabricating silicon surface microstructure by ultra-short pulse laser

摘要摘要硅材料的应用十分广泛,但受其能带结构的限制,晶体硅难以吸收波长大 于1.1岬的光波。此外晶体硅有较高的反射率,降低了其对光波的吸收效率。 为了提高吸收效率,在硅片表面制作微结构是一种有效的方法。飞秒激光具有极高的峰值功率、极短的作用时间等优点,它已成为一种优秀的微加工光源被 广泛用于材料加工领域。为此我们利用超短脉冲激光进行了一系列制作硅表面 微结构实验,并运用分予动力学(Molecular Dynamics)方法模拟了激光与硅片相互作用的微观过程。主要工作包含一下几个方面:一、在调研飞秒激光与电介质作用的有关理论后,我们计算了飞秒激光 (100ts,800nm)作用下晶体硅的多光子电离系数和雪崩电离系数,通过求解福 克一普朗克(Fokkcr-Planck)方程得出了飞秒激光与单晶硅相互作用的一些具体情 况,包括损伤阈值,烧蚀深度等,为下一步实验操作提供了数值参考。二、考虑到纳秒激光加工具有低成本和实验条件要求较低等特点,我们首 先利用纳秒激光进行了硅表面微结构的加工,得到了在现有条件下的最优化加 工结果,微结构尺度约为509in,且对红外波段光吸收率提高至70%左右,但 微结构规则度欠佳。三、在得出现有实验条件下纳秒激光难以加工出优良的硅片表面微结构的 结论之后,我们继续进行了飞秒激光微加工实验,分析了不同实验条件对微结 构形貌、光学性质的影响。实验得到的硅表面微结构明显优于纳秒激光的实验 结果,微结构尖峰尺寸比纳秒激光加工结果小了一个数量级(达到了5pan左右), 而且形貌统一,对红外波段光吸收率达到85%以上。四、最后,我们结合MD方法初步探究了硅表面微结构形成的过程。由于 超短脉冲激光与硅片相互作用形成微结构的机理尚不明确,我们希望通过分子 动力学方法对微结构的形成过程更进一步的研究。通过MATLAB编程求解MD 方程,我们模拟了飞秒激光脉冲激光烧蚀硅片表面最初阶段的微观过程,为今 后进一步量化研究奠定了理论基础。关键词:超短脉冲激光;硅表面微结构;分子动力学AbstractSilicon is widely used in various applications.However,silicon can not absorb the optical radiation、jl,itll wavelengths beyond 1 1 00 nm due to the limitation of band gap.Ftlrthcl-mOre,it is highly reflective,嬲a result,the absorption of optical radiation is reduced.Making micro-structure in the silicon surface is an effective way to enhance the absorption.Recent years,femtosecond laser is widely used in material processing、加m lli曲precision and low heat effect and damage threshold.In this thesis,we studied and how to make micro—structures On the silicon utilizingultra-short l嬲er sources in SF6 atmosphere,and then simulated how the ultra-short laser pulses interacted with silicon by molecular dynamics(MD).1.We analyzed the interaction between femtosecond laser and silicon.We getthe multiphoton ionization coefficient and impact ionization coefficient in the laserparameters嬲l OOfs 800nto.We used F-P equation to get the damage threshold andcrater shape of silicon,2.W.e used nanosecond laser pulse to fabricate micro-structure,and obtained the best results by optimizing the experimental conditions.the absorption of infrared light

您可能关注的文档

文档评论(0)

xyz118 + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档