新型纳米压印光刻技术的研究和应用.docVIP

------------------------------------------------------------------------------------------------ —————————————————————————————————————— 新型纳米压印光刻技术的研究和应用 今日启明星 屈新萍（复旦大学信息科学与工程学院 ） 纳米压印（nanoimprint）这个词汇从1995年发明到现在，目前还并未被大多数学者和人们所认识。让我们来解读一下纳米压印。纳米，已经越来越走进我们的生活，随着纳米技术的大量应用，纳米领域向我们敞开了一个神奇、美妙的世界。拜电视宣传所赐，越来越多人知道我们使用的电脑里Intel双核CPU采用的芯片是“45纳米技术”，这个技术就是目前大规模集成电路生产技术。当采用高精度光刻技术后，芯片上特征线条达到的平均线条宽度是45纳米，而国际上众多公司还在向更小的线条尺寸进军。 而压印也不神秘，它其实是一门古老的图形转移技术，中国的活字印刷术就是最初的压印技 术的原型。打一个通俗的比喻，压印就像是把一个刻有凹凸图案的章盖在橡皮泥上，然后在橡皮泥上留下了具有和章的图形相反的图案。只不过在纳米压印中，这个具有凹凸图案的章的图案特征尺寸在几个纳米到几百个纳米，这个章在纳米压印中被称为模板；而这个橡皮泥在压印过程中用特殊的纳米压印胶。图1中我们给出了是用电子束光刻技术制备的目前复旦大学最小的“Lo-底上去。由于这种压印过程多采用温度，因此被称为热压印方法。 从这个典型的纳米压印过程描述中我们看到，纳米压印过程几个关键的工艺包括模板制造、压印过程（包括模板处理、加压、脱模过程）及图形转移过程，涉及的材料包括模板材料、衬底材料、纳米压印胶或能被压印的功能材料等，这些材料的研究、工艺过程的每一步其实都面临了很多的挑战，也是目前学者们正在大力研究的课题。 制备模板的材料采用一般包括硅片透明石英片、金属、蓝宝石等一些比较硬、具有高杨氏模量的材料。一般来说，硅片和石英片由于具有纳米压印过程中所需要的硬度和耐用度，是目前应用最为广泛的。在模板制造中，图形的产生采用光刻技术，对于大尺度的图形，可以采用现有半导体工艺中的紫外光刻技术；对于小的图形，则需要采用电子束光刻技术。电子束光刻的精度可以达到10纳米甚至以下。图形产生后，还需要进行淀积金属、剥离、反应离子刻蚀等一系列工艺，最终把产生的图形转移到衬底上。 在纳米压印过程中，模板的 世界科学2009.6 go”模板，它的直径在3微米，而 比划中最小的尺寸是100纳米。 纳米压印技术是1995年华裔科学家StephenY．Chou提出的。其过程和我们刚才类比的相似，首先在某一种衬底例如硅片、石英片、玻璃片等上涂一层 高分子的胶，然后在一定温度、一定压力下，把用电子束光刻技术制备的具有纳米尺度线宽的模板用机械力的方式压在该高分子胶上，降温后把模板脱出来，就在该胶上留下了所需要的图形，其图形尺寸可以低于10纳米。一般来说，该图形还需要 图1 继续转移到下面的衬 ３９ 今日启明星 程，因此压印胶的选择要求胶的杨氏模量（硬度）在压印过程中小于模板的硬度。这样压印胶需要在外加压力下能够容易变形，而且在脱模过程中这个胶能保持完整，不会被轻易撕扯下来。另外，还要求胶在压印过程中有比 图2 制备是比较昂贵的。这是因为电子束光刻的成本非常昂贵，一般在每小时1000美元左右。制备一个面积在1平方厘米的图形，其成本约为15000美元。但是在纳米压印过程中，一个使用得到的模板可以压印成百上千的图形，而且模板本身也可以利用半导体工艺来进行复制，这样每个图形的成本就降低到了几十美元以下。因此，纳米压印是一个具有高速加工能力、低成本的纳米加工工艺。 一般来说，模板在进行压印过程前要进行预处理。可以想象，当把模板压在光刻胶后再脱模的过程中，有两种可能，一种是模板完全脱离，压印胶图形完整保留；一种是模板和压印胶粘在一起，脱模过程中胶也扯起来，从而使得压印图形没有保留，而且这些粘在模板上的胶也会污染模板。因此模板在使用前，要涂一层抗粘剂，使得模板和压印胶之间的黏附性变差，从而脱模过程变得容易。 在模板处理好后就需要把模板压印在高分子的胶中。纳米压印的胶也是目前大力研发的课题之一。由于压印是一个机械过 较低的粘度，有良好 的流动性。一般来说，在热压印过程中，当压印温度升高到高分子聚合物的玻璃化转变温度后，材料的杨氏模量和粘度都会比室温下降低几个数量级。在压印过程结束后，需要保持机械压力，把模板和胶冷却到