含Ce（SO）电解液体系中所形成AZD微弧氧化膜层的表征.docVIP

含Ce（SO4）2电解液体系中所形成AZ91D微弧氧化膜层的表征 第3l卷第1期 2010年3月 《陶瓷》 JOURNAL0FCERAMICS V01.31.No.1 Mal.2010 文章编号:1000—2278(2010)01-0037-05 含Ce(SO4)2电解液体系中所形成AZ91D微弧氧化膜层的表征 王欢刘向东张雅萍乌迪陈伟东李元涛 (内蒙古工业大学材料科学与工程学院,呼和浩特:010051) 摘要 在微弧氧化过程中,电解液的组成对氧化膜层的形成具有重要作用.本文研究了Na~iO.电解液体系中,Ce(SO4h的含量对 AZ91D微弧氧化膜层特性的影响.测定了氧化膜层的厚度,并用XRD,SEM对氧化膜进行了相组成及表面形貌的:9-b~.结果表 明:Ce(SO,)在O.10～0.30g/L范围内逐渐增加时,陶瓷层的厚度呈现出先增大后减小的趋势,随着Ce(SO+h含量的增加,氧化膜层 表面孔洞直径减小,且裂纹明显减少,氧化膜层较为平整,均匀.XRD分析结果显示,氧化膜层主要由立方结构MgO和镁橄榄石 相Mg#iO4构成. 关键词AZ91D,微弧氧化,电解液,Ce(SO4),陶瓷层 中图分类号:TQ174.75文献标识码:A 1引言 镁合金具有许多优良的物理和力学性能,如密度 低,比强度高等Ⅲ,同时又具有良好的散热性及能量 衰减系数大等特性,因此,被广泛应用在航空航天,电 子通讯,汽车和电脑等行业中.但镁的电极电位低,化 学稳定性差,易发生电偶腐蚀圈,这就制约了其广泛 应用.因此,通过对镁合金适当的表面处理,增强其耐 腐蚀性,耐磨性等性能,具有重要的理论意义和工程 应用价值. 微弧氧化是近年来兴起的一种表面处理技术. 采用该技术可在A1,Mg,Ti等有色金属表面原位形 成陶瓷质氧化膜从而提高金属的耐蚀性,耐磨性 及耐高温l生能网. 前人的研究表明,稀土金属离子具有化学性质活 泼和有助于普通陶瓷烧结的特点F4.在电解液中加入 含ce4+的金属盐,是否也可促进烧结,改善AZ91D 表面维护氧化层的特性是颇值得研究的—个问题,它 对于获得高质量的表面微弧氧化层具有重要意义.因 此,本研究在Na2SiO电解液体系中添加Ce(SO4),调 收稿日期:2009-10—19 基金项目:内蒙古自治区人才开发基金项目(编号:200805) 通讯联系人:王欢,E-mail:wanghuan543210@yahoo.crl 节电解液的组成,在此电解液中对AZ91D试样进行 微弧氧化,对试样表面膜层进行了厚度测试及SEM, XRD分析,以研究电解液中Ce(SO4)含量对AZ91D 表面微弧氧化膜的影响,为进一步控制和改善微弧氧 化膜的特性奠定技术基础. 2试验材料及方法 2.1试验材料 试验材料为压铸镁合金AZ91D,其化学成分为: A1:8.5—9.5%,Mn:0.17—0.4%,其余为Mg.将铸锭切 割成尺寸为30×20X3mm的试样,用360#砂纸打 磨,经丙酮清洗并干燥后,用铝丝将试样悬挂浸入电 解液中. 2.2试验方法 所用微弧氧化电源为WHD-30型.试验过程 中,工作频率为100HZ,正向电压400V,电流随反应 进行自动调节.负向电压控制在120V,氧化处理时 间为10rain.基础电解液的组成为:12.Og/L Na2SiO3+2.0g/LNaOH+2.Og/LNa2EDTA,在基础电解 液中加入0.1Og/L~O.30g/L的Ce(SO4)来调整电解液 《陶瓷}2010年第1期 昌 i 畸 譬 姓 霍 0.OO0.O50.100.150.2O0.250_3O Ce(SO)的含量L) 图1电解液中0e(804)2含量对陶瓷层厚度的影响 Fig.1EffectsofthecontentofCe(S04)2intheelectrolyte onthethicknessofceramiccoatings 组成.试验过程中,试样作为阳极,电解槽作为阴极, 槽的内外壁之间通循环水冷却,以使电解液温度保持 在25℃左右. 用涡流测厚仪测量试样表面所形成膜层的厚度, 采用SEM(Quanta-44)0)对陶瓷表面进行观察,用 XRD对陶瓷层进行物相分析. 3结果与讨论 3.1膜层厚度 图l所示为电解液中Ce(SO0含量对陶瓷层厚 度的影响.从图1可以看出,电解液中不含Ce(SO4) 时,试样表面所获得的陶瓷层厚度为67m;加入ce (sO4)0.10g/L时,陶瓷层厚度迅速减低至约5lm. Ce(SO4)加入量为0.10～0.20g/L时,陶瓷膜层厚度又 开始逐渐增大.当电解液中Ce(SO4)加入量超过 0.20eJL时,试样表面氧化膜层厚度变薄. 显然,电解液中加入Ce(SO0后所得到的微弧 氧化膜层厚度比较薄,小于在基础电解液中得到的膜