蒙脱土改性及其在聚合物中的运用.pdfVIP

摘要 ● 晶层距离的不断增大是由于有表面活性剂进入层间。HDACl进入层间的机理可以解释为： 当表面活性剂量小于交换容量时，交换动力来自于离子交换反应，而且表面活性剂与层间 表面之间有很强的作用；当表面活性剂量超过阳离子交换容量时，表面活性剂通过憎水基 ‘ 团之间的作用将阳离子连同对应的阴离子一起带入层间，导致层间距不断增大。对于CTAB 而言，过量表面活性剂的加入也会导致层间距增大，但是不明显，其机理可以解释为：层 间距的不断增加是由于表面活性剂的阳离子与剩余Na+的交换，因为在阳离子表面活性剂 量小于阳离子交换容量时，Na+不可能被完全交换出来。 原料的W：①证明。 样的结论可以在PA6中发现。 关键字： 蒙脱土，表面活性剂，插层改性，广角x．射线衍射，热分析 Abstract TheintercalationofcationicsurfactantswasintoNa-MMTWas by of investigatedreacting Na-MMTwith and the tO HDACl ofsurfactalltwasfrom0．5 4． CTAB，and exchangecapacity WAXDWasusedto resultsindicatedthatthe distancesbecame determine,the interlayer lager to duo HDAClintONa-MMT．Themechanismbe asfellow：whenthe adding mayexpounded ofsurfactantislessthan calTlefTomreactionof quality exchangecapacity,theexchangepower cation thereare betweensurfactantand interaction strong exchange，and whenthe isOVer of surfactantcarriedcations quality exchange cation,the of§urfaetant capacity with entered of anions the interaction corresponding through hydrophobicgroups interlayer tOincreaseofthe distance．ForCTAB．exceSSsurfactantcanleadto of leading interlayer increase the distance．butitisnotobvious．Themechanismbe