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国家高技术的研究发展计划新材料技术领域
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国家高技术研究发展计划(863计划)新材料技术领域
“新型平板显示技术”重大项目2008年度课题申请指南
一、指南说明
依据《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020年)》、《国家“十一五”科学技术发展规划》和《国家高技术研究发展计划(863计划)“十一五”发展纲要》,863计划新材料技术领域围绕国家重大行业应用和经济发展的迫切需求,设立了“新型平板显示技术”重大项目。
本项目立足于建立以企业为主体的平板显示技术创新体系,通过核心技术和共性技术的突破,支持企业的垂直整合和产业调整。本项目将以自主知识产权技术产品的产业化为主要目标,重点发展TFT-LCD、PDP和OLED技术,侧重发展未来对显示技术产业可能产生重大影响的FED和E-PAPER技术,同时兼顾FPD共性测试技术和前瞻性技术的研究,以规范技术性能测试和产品测试标准、完善平板显示技术评价体系、把握新型FPD的发展方向。
本次发布的课题申请指南主要围绕TFT-LCD产业关键配套材料、PDP产业关键配套材料、OLED新技术和OLED产业关键配套材料、电子墨水创新技术及无源和有源E-PAPER显示屏等方面进行安排,设置课题18个,国拨经费控制数8600万元。
二、指南内容???
TFT-LCD关键配套材料开发
本部分资助TFT-LCD关键配套材料的研发,解决我国TFT-LCD产业发展所需的关键配套材料国产化问题。
设置5个课题,国拨经费控制数2800万元。
申请要求:课题申请单位就配套材料的验证工作与TFT-LCD屏生产企业签定合作协议,鼓励使用国产原材料进行产品开发,申请书中必须注明所使用国产原材料占整个产品原材料的比例。
课题1、TFT-LCD用偏光片工程化技术开发
【课题研究目标】完成TFT-LCD偏光片技术开发,实现批量生产,为TFT-LCD面板厂提供配套。
【课题主要研究内容】完成偏光片染色拉伸复合工艺、TAC膜表面处理工艺研究,同时开展装备配置技术研究,掌握低成本批量生产技术。
【课题主要考核指标】
单体透过率: ≥41%;
垂直透过率: ≤0.1%;
380nm透过率: ≤1.8%;
偏光度: ≥99.7%;
幅宽: ≥560mm;
色调: a (NBS):-1.5±1.5 b(NBS):4.0±1.5;
外观、光学和机械性能方面满足客户要求,产品至少通过2家TFT-LCD屏生产企业的认证;
产业规模: 具备50万平米/年的产能;
知识产权: 申请5项以上发明专利。
【课题支持期限】2010年12月以前完成。
【课题经费来源及构成】国拨经费控制数1000万元,课题承担单位提供配套经费2000万元以上。
【课题申请单位的条件】以企业为主体,具有较好的研发基础和较强的研发实力,具备批量生产条件和能力,资金充足。
课题2:TFT-LCD用增亮膜的研究与中试技术开发
【课题研究目标】开发具有自主创新技术的TFT-LCD产品用增亮膜,完成中试生产。
【课题主要研究内容】重点研究增亮膜的结构设计,开发合成材料,发展低成本技术,完成增亮膜制造工艺研究,优化生产设备配置以及加工工艺,解决产品质量均匀性问题。
【课题主要考核指标】
面板亮度:在原有基础上提高60%(不使用棱镜膜);
背光模组亮度均匀度:≥85%;
外观、光学和机械性能方面满足客户要求,产品至少通过2家TFT-LCD屏生产企业的认证;
中试规模: 1万平米/年的产能;
知识产权:申请5项以上发明专利。
【课题支持期限】2010年12月以前完成。
【课题经费来源及构成】国拨经费控制数300万元,课题承担单位提供配套经费600万元以上。
【课题申请单位的条件】以企业为主体,具有较好的研发基础和较强的研发实力,具备中试生产条件和能力,资金充足。
课题3:大尺寸TFT-LCD彩膜工程化技术开发
【课题研究目标】开发并掌握TFT-LCD彩膜的工程化生产技术,实现批量生产,为TFT-LCD屏生产企业提供配套。
【课题主要研究内容】开展大尺寸彩膜设计技术研究,包括结构设计、色彩匹配技术研究;开展制造工艺技术研究,包括黑矩阵形成技术、RGB光阻涂布技术、ITO成膜技术等;发展低成本技术。
【课题主要考核指标】
基板尺寸: 不小于1100×1300;
? 色域: ≥72%;
? 对比度: ≥800:1;
? 分辨率: (W)XGA ;
外观、光学和机械性能方面满足客户的要求,产品至少通过2
家TFT-LCD屏生产企业的认证;
? 产业规模: 具备30000片/月的产能;
? 知识产权: 申请5项以上发明专利。
【课题支持期限】2010年12
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