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第3章 晶体生长
第3章 晶体生长
3-1 、晶体生长理论基础
3-2 、熔体的晶体生长
3-3 、硅、锗单晶生长
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料
3-2 熔体中的晶体生长
熔体中生长的过程:
液- 固相变:无对称性结构→有对称性结构
不是整体效应,固液界面不断推进逐步完成的类似于
正常凝固的过程,相变过程放出相变潜热。
熔体生长的相变条件:ΔT <0
即生长界面必须处于过冷状态,是低于凝固点T的等
温面。
Ge、Si、GaAs 、InP等单晶,都是从熔体中生长的。
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料 3-2 熔体的晶体生长
熔体生长的目的:获得高质量体单晶
熔体中生长要求:材料在熔点附近性能稳定,不
发生分解、升华和相变
在晶体生长过程中,为保证晶体生长顺利进行必须
考虑解决热量输运和质量输运的问题。
气相和溶液中生长晶体时,质量输运起重要作用。
熔体中生长主要是热量输运问题,它直接影响晶
体生长参数、生长界面形态和晶体的完整性等。
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料 3-2 熔体的晶体生长
3-2-1 晶体生长界面热输运方程
热传递包括:
QH :加热器传给坩埚的热;
QRC :坩埚向外辐射的热(底部);
Q :熔体向固-液界面传导的热;
L
QRL :熔体向外散热;
Q :相转变时放出的相变潜热;
F
QRS :晶体表面散热;
Q´ :籽晶传导散失热;
C
QC :从固-液界面传走的热。
Q = Q +Q ´ 。
C RS C
重要的是直接通过固- 液界面
的热流,即:Q 、Q 、Q 。
L F C
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料 3-2 熔体的晶体生长
晶体稳定生长时,在生长的固-液界面上保持热平衡,
即在单位时间内 Q +Q =Q
L F C
设生长晶体的截面积为A ,生长速度为f ,相变潜热
为~ ,晶体密度为d ,结晶放出的相变潜热Q
H (J g ) F
~
QF fAd H
⎛dT ⎞
从熔体传到界面的热量Q 为 QL K L ⎜ ⎟A
L ⎝dZ ⎠L
从固-液界面向晶体传走的热量QC为 QC K S ⎛⎜dT ⎞⎟A
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