微电子工艺面试问答.docVIP

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  • 2018-08-15 发布于湖北
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微电子工艺面试问答

EPI外延 PR光刻 CMP化学机械抛光 DIF扩散 ETCH刻蚀 CVD化学气象沉积 litho就是光刻 D——drain 漏极 S——source 源极 G——gate 栅极 YE——良率(提升)工程师 PIE——工艺整合工程师 CMP——chemical mechanical polish 化学机械抛光 PCM——process control monitor 工程控制监测 WAT——wafer acceptance testing 芯片电性(验收)测试 IC——integrated circuit 集成电路 CMOS——complementary metal oxide semiconductor 互补金属氧化物半导体 MOS FET——Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor 金氧半场效晶体管 N型——negative type P型——positive type VT——阈值电压,通常将传输特性曲线中输出电压随输入电压改变而急剧变化转折区的终点对应的输入电压称为阈值电压.也称为开启电压。当器件由耗尽向反型转变时,要经历一个 Si 表面电子浓度等于空穴浓度的状态。此时器件处于临界导通状态,器件的栅电压定义为阈值电压,它是MOSFET的重要参

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