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大气等离子体技术在食品阻隔保鲜领域应用综述 　　【摘 要】大气等离子体技术因无需真空、工艺简单、操作方便等特点，具有广阔的应用前景。特别是在真空下才能完成的镀膜工艺，如果能在大气状态下完成，不但节省工艺成本，还可在不同的材料基材上完成薄膜的制备，大大扩展了镀膜工艺的应用范围。本文主要针对真空沉积技术依赖程度较高的阻隔薄膜领域，综述了大气等离子体技术在此方向的研究情况，为食品储存、保鲜市场提供更广阔的发展和应用空间。 　　【关键词】大气等离子体 类金刚石 氧化硅 阻隔性能 食品保鲜 　　Application review of Atmospheric Plasma Technology in Food Barrier Preservation Area 　　Li Yan， Sun Yunjin， Tong Qigen，Wu Jun， Xu GuangQian 　　（ Faculty of Food Science and Engineering ， Beijing Engineering Research Center of Egg Safety production and processing， Beijing 102206， China） 　　【Abstract】Atmospheric plasma technology has a wide application in future due to non vacuum， simple process and easy operation. Especially for some deposition process， which could not be obtained under vacuum condition， will save process cost if possible in atmospheric condition and also realize the film preparation on different kinds of substrate， which will significantly enlarge the application area of film process. As for barrier area， which has strong dependence on the vacuum deposition technology， atmospheric plasma technology was reviewed in this research direction， supplying a vast development and application space for food storage and preservation market. 　　【Key words】Atmospheric plasma； Diamond-like； Silicon oxide； Barrier performance； Food preservation 　　大气等离子体技术（Atmosphere plasma technology， APT），具有中心火焰温度高、放电气体组分可控、工艺简便、基材种类不限等特点，具有广阔的应用前景，是最近十年来逐渐兴起的一个热门研究方向，它在生物、医疗、环境、材料处理等方面有着广阔的应用前景。 　　1 大体等离子体放电原理 　　等离子体是由大量的电子、离子、原子、分子或自由基等粒子组成的集合体，但在整体上表现为电中性。它与物质的三态（固态、液态和气态）一样，是物质存在的又一种基本形态。根据等离子体中电子和离子的温度，等离子体可以分为高温等离子体和低温等离子体，即当电子温度等于离子温度时，称为高温等离子体；当电子温度远大于离子温度时，称为低温等离子体。对低温等离子体来说，电子温度高达104K，而离子温度却为300K-500K，大气等离子体就是低温等离子体中的一种。 　　如图所示为大气等离子体设备的传统模式，主要工作原理是：在一定的电流和高压条件下，当阴极前进同阳极接触后，系统处于短路状态；当阴极缓缓离开阳极时产生电弧，压缩空气在电弧作用下，被电离为高温等离子体；该等离子体在点火燃烧器中形成核心温度5000℃的梯度极大的局部高温火核，此高温区域可实现瞬时挥发或熔化粉体、裂解气体，从而实现沉积、杀菌等功能。 　　2 大气等离子体放电特点 　　与真空下的材料表面改性相比，例如等离子体增强化学气相沉积技术具有涂层致密、结合强度高、喷涂效率高、涂层厚度可控等优点，大气等离子体技术沉积涂层材料具有以下优点：（1）等离子体火焰的温度高（中心温度10000K以上），适合制备高