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- 2018-09-30 发布于天津
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《纳米技术与精密工程》排版格式与论文书写要求-CNKI.doc
太 原 理 工 大 学 学 报
题名应能恰当、简明地反映论文内容
太 原 理 工 大 学 学 报
Journal of Taiyuan University of Technology
本模板由不同论文拼凑而成,请主要关注格式和规范要求,忽略内容上的前后不对应
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TiO2纳米颗粒的制备、光催化性能及羟基自由基研究
标题题目应恰当简明地反映论文内容,精确点明本文的独创性内容
第一作者1 ,2 ,第二作者2
(1.XXXX大学 XX学院,山西 太谷 030801; 2 XXXX大学 XXXX学院,山西 太原 030006)
摘 要:摘要内容应包括目的、方法、结果和结论;缩写词第一次出现时请用全称;不要出现公式、图表和参考文献序号。针对金属层间介质以及MEMS等对氧化硅薄膜的需求,采用等离子增强型化学气相淀积(PECVD)技术,以SiH4和N2O为反应气体,低温制备了SiO2薄膜。利用椭偏仪、应力测试系统对SiO2薄膜的厚度、折射率、均匀性以及应力等性能指标进行了测试,探讨了射频功率、反应腔室压力、气体流量比等关键工艺参数对SiO2薄膜性能的影响。结果表明:SiO2薄膜的折射率主要由N2O/SiH4的流量比决定,而薄膜均匀性主要受电极间距以及反应腔室压力的影响。通过优化工艺参数,低温260℃下制备了折射率为1.45~1.52(中文环境下,用波浪线表示数字范围),均匀性为±
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