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双不定向飞靶介绍-1
應用多層面Rasch模式分析雙不
定向飛靶優秀選手的射擊技術
姚漢禱 、姚偉哲
Yau, Han-Dau
Yao, Wei-Che
雙不定向飛靶介紹-1
每一位運動員要在五個不同的靶位上射
擊 ,每次射擊會有兩個目標靶同時出
現 ,運動員一次要瞄準兩個目標靶射
擊 ,但每發子彈只能打一個目標靶。
1
雙不定向飛靶介紹-2
雙不定向飛靶介紹-3
雙不定向飛靶場各有五個射擊靶位(firing
station) ,靶位與靶位的間隔為靶位中心
點至另一靶位的中心點距離3.3至3公
尺,第六個射擊靶位是等候進入第一個
射擊靶位的等待位置 。選手分組以6個人
為一組,射擊順序(Shooting Order)與射
擊靶位的位置(Firing points) ,以抽籤決
定或以電腦程式隨機選擇產生。
2
雙不定向飛靶介紹-4
射擊靶位只有五個 ,第六號選手須在第
一靶位後方的第六個等待射擊位置 ,當
進入第一靶位射擊時 ,按照靶位的編輯
順序 ,依序逐一進行射擊;第一靶位選
手射擊完畢後 ,仍需暫留在原靶位等
待,挨第二個射擊靶位選手射擊完畢
後,才能前進至第二個射擊靶位等待下
一輪的射擊 ,依此類推每一位選手在每
個射擊靶位上射擊二發泥盤,隨後再移
到下一個射擊靶位準備射擊 。
雙不定向飛靶介紹-5
發射目標靶是利用聲控 ,運動員喊出聲音即刻激發機
器拋靶 ,在0 到1 秒時間範圍內 ,隨機發射兩個目標
靶 。
雙不定向飛靶場的拋靶機設置 ,射擊靶位距離拋靶機
15公尺 ,射擊靶位距離泥盤落地點為55公尺 ,拋靶機
(Trap Machine)有三台 ,分別稱為7 、8 、9號靶機
(ISSF2005規則分別稱為1 、2 、3號靶機),泥盤拋
射角度(Angles) ,8號靶機為0度拋靶 ,7號靶機為中央
向左5度拋靶 ,9號靶機為中央向右5度拋靶 ,而拋射
的高度(Elevation)規定 ,距靶機10公尺的地方 ,8號
靶機拋射的泥盤在高3.5公尺的位置 ,7 、9號靶機拋
射的泥盤在3公尺的位置。
3
雙不定向飛靶介紹-6
研究方法
射擊技術分析八個重點(層面) 包括選手、
賽制 、日期、拋靶類型 、射擊回合 、開
始靶位 、射擊靶位及目標等技術要素 。
利用適合度考驗 (INFIT OUTFIT )、
難度 (measure )和估計誤差 (Model
S.E. )建立各層面技術的量尺 ,然後根據
非期望反應 (unexpected Responses )
和標準殘差 (standardized residual )進
一步探討選手個人的技術類型和優缺
點。
4
雙不定向飛靶射擊技術的測量-
1
層面 總數 估計值 模式誤差 Infit均方 Outfit均方 卡方考驗
運動員 84.7*
1 陳 1000 2.28 .10 .97 .85
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