多弧离子镀及磁控溅射沉积CrN及CrWN2薄膜的研究-材料加工工程专业论文.docxVIP

万方数据 万方数据 摘 要 摘 要 本文利用多弧离子镀技术及磁控溅射技术分别在淬火 45 钢、201 奥氏体不锈钢、 单晶硅基体表面沉积 CrN 薄膜和 CrWN2 复合薄膜，并研究了工艺参数对于薄膜的影 响。利用 X 射线衍射仪(XRD)对 CrN 薄膜和 CrWN2 复合薄膜进行物相和结构分析； 利用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜的表面和横截面形貌以及利用附带的能谱仪 (EDS)分析薄膜的化学成分；利用显微硬度计检测薄膜的表面硬度；利用附着力自动 划痕仪对薄膜进行声发射信号检测；利用高速往复摩擦磨损试验机对薄膜进行摩擦磨 损试验；利用蔡司光学显微镜观察薄膜的划痕和磨损金相；利用电化学测量仪对 CrN 薄膜、CrWN2 复合薄膜和奥氏体不锈钢基体试样分别在 3.5% NaCl 溶液、1 mol/L NaOH 溶液、1 mol/L H2SO4 溶液中进行电化学腐蚀试验；根据第一性原理对 CrWN2 超级晶胞中的空位进行计算分析，研究空位对晶胞结构和性能的影响。研究结果如下： 1. 多弧离子镀沉积 CrN 薄膜的最佳工艺参数为：多弧靶电流 68 A，Ar/N2 = 1:3， 基体温度 200 ℃，沉积时间 60 min；多弧离子镀及磁控溅射沉积 CrWN2 复合薄膜的 最佳工艺参数为：多弧靶电流 68 A，磁控溅射靶直流电流 3 A，Ar/N2 = 1:3，基体温 度 200 ℃，沉积时间 50 min。 2. 氮气分量的增加有助于形成单相 CrN 薄膜，抑制液滴的形成，使薄膜细化平 整。基体温度则会影响薄膜的生长过程，温度过低容易导致结晶不足，薄膜缺陷孔隙 增加；温度过高容易导致晶粒尺寸过大，薄膜表面粗糙。 3. 随着氮气分量的增加，CrN 膜-基结合力趋向加强，最大临界载荷 Lc = 35 N； 但在纯氮气条件下，CrN 不能与基体很好的结合。沉积温度的升高可以降低薄膜的应 力，加强膜-基结合力。 4. 随着氮气分量的增加，CrN 薄膜的硬度可达 2377 HV；CrN 薄膜的磨损量和 摩擦系数也有减小。基体温度对薄膜的硬度和耐磨性影响并不明显。 5. CrN 薄膜的相对腐蚀速率与氩氮流量比成正比例关系，在 3.5% NaCl 溶液、1 mol/L NaOH 溶液和 1 mol/L H2SO4 溶液中的耐腐蚀性都有不同程度的提高。在 3.5% NaCl 溶液中，CrN 薄膜的耐腐蚀性比 201 不锈钢和 TiN 薄膜提高并不明显；但在 1 mol/L NaOH 溶液和 1 mol/L H2SO4 溶液中，CrN 薄膜的耐腐蚀性比 201 不锈钢分别提 高了 17.8 倍和 81.5 倍。 6. 磁控溅射直流电流和氩氮流量比是形成 CrWN2 复合薄膜的两个主要因素，只 有磁控靶溅射量达到一定程度才能形成 CrWN2 复合薄膜，但是溅射量过大容易形成 大颗粒，影响薄膜质量。氮气分量比较低时，薄膜中会伴随有 Cr2N 相和 W2N 相；提 高氮气分量可以形成单相 CrWN2 复合薄膜，抑制液滴生成，使薄膜细化致密。 7. CrWN2 复合薄膜的最大临界载荷 Lc = 45 N，比 CrN 薄膜提高了 10 N。提高氮 I II万方数据 II 万方数据 多弧离子镀及磁控溅射沉积 CrN 及 CrWN2 薄膜的研究 气分量也可以加强 CrWN2 复合薄膜的膜-基结合力。 8. 磁控溅射直流电流和氮气分量对 CrWN2 复合薄膜的硬度和摩擦磨损性能影响 明显。W 可以提高 CrN 薄膜的硬度和耐磨损性能。 9. 氮气分量的增加，可以增强 CrWN2 复合薄膜在 3.5% NaCl 溶液和 1 mol/L H2SO4 溶液中的耐腐蚀性。在 3.5% NaCl 溶液中，201 不锈钢、CrN 薄膜和 CrWN2 复合薄膜的耐腐性差不多；在 1 mol/L NaOH 溶液和 1 mol/L H2SO4 溶液中，CrWN2 复合薄膜的耐腐蚀性要强于 201 不锈钢；但在 1 mol/L H2SO4 溶液中，CrWN2 复合薄 膜的耐腐蚀性不如 CrN 薄膜。 10. Cr 空位的缺陷形成能要比 W 空位的低；超级晶胞内的空位会对化学键造成 不同程度的影响；化学键的变化引起的晶格畸变提高了 CrWN2 复合薄膜机械性能。 关键词：CrN 薄膜；CrWN2 复合薄膜；膜-基结合力；摩擦磨损；电化学腐蚀；第一 性原理 PAGE IV PAGE IV 万方数据 Abstract Abstract By using multi-arc ion plating (MAIP) and magnetron sputtering technologies, CrN coatings and CrWN2 composite coa