氧化石墨在H2还原过程中的结构与性能变化①-中国科技论文在线.PDF

第 15 卷第 6 期 中国有色金属学报 2005 年 6 月 Vol . 15 No . 6 The Chinese Journal of Nonferrous Metals J un . 　2005 文章编号 : 1004 0609 (2005) 06 0940 06 氧化石墨在 H 还原过程中的结构与性能变化① 2 1 1 1 2 邹艳红 , 刘洪波 , 傅 　玲 , 陈宗璋 ( 1. 湖南大学 材料科学与工程学院 , 长沙 4 10082 ; 2 . 湖南大学 化学化工学院 , 长沙 4 10082) ( 摘 　要 : 对氧化石墨进行了热解和 H2 还原处理 , 通过元素分析 、X 射线衍射分析 、傅立叶变换红外光谱仪 F T IR) 分析和粉末电阻率测定 , 初步探讨了氧化石墨的分子组成 、官能团、晶体结构和电导率随还原温度的变化规 律 。结果表明: 对经 220 ℃热处理的热解氧化石墨进行 H2 还原处理时 , 随着还原温度的升高 , 还原氧化石墨中氧 元素的质量百分含量减小 , 晶体结构逐渐回复为石墨的晶体结构 , 但存在明显的晶粒细化现象 ; 随温度的升高 , 还原氧化石墨的电导率增大 , 并在 500 ℃时达到最大值 6 . 67 S/ cm ; 当还原温度超过 500 ℃时 , 由于层间距增大及 晶粒进一步细化 , 其电导率又逐渐降低 ; 热解氧化石墨在 H2 中的还原过程可以分为两个阶段 , 第 Ⅰ阶段主要发 生 —C O 基团和 C —O H 基团的还原反应 , 第 Ⅱ阶段残余的 C —O H 基团被还原 。 关键词 : 氧化石墨 ; 还原 ; 晶体结构 ; 电导率 中图分类号 : TB 32 1 文献标识码 : A Changes of structures and properties of graphite oxide in process of reduction under H 2 ZOU Yanhong1 , L IU Hon gbo1 , FU Ling1 , C H EN Zongzhang2