基于电光晶体测量高功率微波.PDFVIP

∗ 基于电光晶体测量高功率微波 宋莉莉 ， 贺军涛 ，令钧溥 ，江涛 （国防科学技术大学 光电科学与工程学院，长沙 410073 ） 摘 要： 电光晶体测量高功率微波是通过测量微波电场来实现微波测量的一种方法，较传统电场具有结构简单、分辨率 高、测量频域宽的优点。文章通过对电光晶体测量电场的原理及选择依据的分析，找出了适合测量微波电场的晶系种类，分 析了不同晶体的探测方法，并对两种不同结构电光晶体探头的测量原理进行了分析，通过模拟对探头的性能进行了比较。分 析表明，有反射率为100%的涂层的探头结构具有灵敏度高、相对反射光强高等优点。 关键词： 微波测量; 电光晶体; 电场; 相对反射光强 中图分类号： 文献标志码： A doi: 微波测量是研究高功率微波技术的一个重要手段，随着高功率微波向高功率、高频段、长脉冲、宽频带 的发展，由于传统金属测量装置存在的系统误差，及相互间的干扰，已越来越不能满足对高频率或复杂模式 微波的测量需求。因此，人们一直致力于测量方法的研究和准确可靠的测量装置的研制。 1893 年，Pockels 发现了线性电光效应，即电场可引起晶体折射率改变这一现象。上世纪 80 年代以来， 研究证明了利用线性电光效应可实现对微波电场的测量[1] 。电光测量技术在过去 20 年里得到了快速发展， 是目前报道的唯一能在低干扰状况下实现对电场测量的方法[2] 。一个广泛被应用的结构是在光纤上装备小型 的电光传感晶体，由于电光晶体对电磁波的透明性好、材料体积小等优点[3]，使得它可以高水平的测量。与 传统微波测量方法相比，电光晶体可实现低干扰、高空间及时间分辨率、更宽频域的测量，且设备便宜，平 台易搭建[4] 。 1 基于电光晶体测量高功率微波 [5] 当存在外加电场时，电光晶体的折射率椭球会发生变化 ，考虑一次电光效应，折射率的变化量可写成 以下矩阵形式， 1 1 ⎛ 2 − 2 ⎞ ⎛r r r ⎞ ⎜n11 n1 ⎟ ⎜ 11 12 13 ⎟ 1 1 ⎜ 2 − 2 ⎟ ⎜r r r ⎟ n22 n2 21 22 23 E ⎛ ⎞ ⎜ 1 − 1 ⎟ ⎜ ⎟ x 2 2 r r r ⎜ ⎟ n n 31 32 33 ⎜ 33 3 ⎟ ⎜ ⎟E （1） ⎜ ⎟ ⎜ 1 ⎟ r r r y n2 ⎜ 41 42 43 ⎟⎜ ⎟