基于PS球刻蚀技术制备纳米孔滤波器结构的优化分析-发光学报.PDFVIP

第34卷摇 第4期 发摇 光摇 学摇 报 Vol郾34 No郾4 2013年4月 CHINESEJOURNAL OF LUMINESCENCE Apr. ,2013 文章编号:1000鄄7032(2013)04鄄0456鄄07 基于PS球刻蚀技术制备纳米孔滤波器结构的优化分析 * 任良科,杜惊雷 ,李淑红,张志友,侯宜栋,高福华,黄摇 霞 (四川大学物理科学与技术学院纳光子技术研究所,四川 成都摇 610064) 摘要:金属纳米孔阵列作为彩色滤波器件在OLED 中有很好的应用前景。 本文提出利用胶体晶体刻蚀与真 空沉积技术制作大面积金属纳米孔阵列滤波器,并用FDTD模拟优化所需要加工的金属孔阵列的结构参数, 分析了其滤波效果及其物理规律和机制。 研究表明:在选择粒径为720 nm 的PS球、刻蚀剩余粒径为240 nm、金属膜厚度为120 nm 的条件下,满足CIE红光显示标准的共振波长为704.06 nm,强度透射率为52%,透 射谱带宽为24.8 nm。 模拟结果为用PS球刻蚀技术制备金属纳米孔阵列的实验提供了理论支持。 关摇 键摇 词:有机发光二极管(OLED);彩色滤波器;胶体晶体;强度透射率 + 中图分类号:TN383 .1摇 摇 摇 文献标识码:A摇 摇 摇 DOI:10.3788/ fgx0456 Optimizing and Analyzing of The Structural Parameters of Metallic Nano鄄hole Array Fabricated by PS Sphere蒺s Etching Technology * REN Liang鄄ke,Du Jing鄄lei ,LI Shu鄄hong,ZHANGZhi鄄you, HOU Yi鄄dong,Gao Fu鄄hua,HUANG Xia (Nano Photonics Research Technology Institute,College of Physical Science and Technology,Sichuan University,Chengdu610064,China) *Corresponding Author,E鄄mail:dujl@ Abstract:Metallic nano鄄hole array based color filter is showing the great potential application for OLED. In this paper,we propose the metallic nano鄄hole array based filter in large area by emplo鄄 ying colloidal etching and vacuum depositing technology. To ease thefabrication,the structural pa鄄 rameters of the nano鄄hole array on the transmittance of the red light aswell asthe bandwidth is sys鄄 tematically studiedandanalyzed. Thesimulationresultsindicatethatwhenthediameterofthenano鄄 hole is240 nmandthefilmthicknessis120 nm,thetransmittedresonantwavelengthforreddisplay is704.06 nm,the intensity trans