溅射靶材对TiAlN涂层形貌结构和力学性能的影响.PDF

溅射靶材对TiAlN 涂层形貌、结构和力学性能的影响 1,2 1,2 1,2 1,2* 3 梁俊才 穆健刚 张凤戈 周武平 赵海波 （1 中国钢研安泰科技股份有限公司 北京 100081； 2 北京市镀膜靶材重点实验室 北京 100081； 3 四川大学分析测试中心 成都 610064 ） 摘要：采用粉末冶金和真空熔炼方法制备了原子比为Ti50Al50 的合金靶材，利用磁控溅射工 艺在同一工艺参数下制备了TiAlN 涂层，借助扫描电镜(SEM) 、原子力显微镜(AFM)、X 射线 衍射仪(XRD) 、纳米压痕和结合强度实验，研究了溅射靶材对 TiAlN 涂层的形貌、结构和力 学性能的影响。结果表明：粉末靶材中Ti 和Al 以单质相存在，Ti 镶嵌于Al 基体周围，熔炼 靶材中形成了TiAl 和Ti Al 合金化片层组织；由于两种靶材在组织结构和导热性能上的不同 3 导致其溅射产额、靶材温度和溅射金属离子能量等都出现了明显的差异；对涂层的影响表现 为，相比于熔炼靶材涂层，粉末靶材涂层的沉积速率高44% ，表面粗糙度低24%，涂层表面 熔滴数目和尺寸较小；粉末靶材涂层呈现Ti AlN 相等轴晶生长方式，熔炼靶材涂层由于沉积 2 温度较高表现为Ti AlN 相和TiN 相，以等轴晶和柱状晶混合生长；相结构的不同导致涂层的 2 硬度和结合强度出现差异，粉末靶材涂层硬度为25.69Gpa，结合强度属于HF-3，熔炼靶材涂 层的硬度为28.22Gpa，结合强度属于HF-5 。 关键词：溅射靶材；TiAlN 涂层；形貌；结构；硬度；结合强度 基金项目：国家自然科学基金项目（No.） *联系人：Tel: Email ：zhouwuping@ Effect of sputtering target on morphology, structure and mechanical properties of TiAlN coating Liang Juncai1, 2, Mu Jiangang1, 2, Zhang Fengge1, 2, Zhou Wuping1, 2*, Zhao Haibo3 (1. Advanced Technology Materials Co., Ltd, Beijing 100081, China; 2 Beijing Key Laboratory of Coating Targets, Beijing, Beijing 100081, China; 3. The Analysis and Testing Centre, Sichuan University, Chengdu 610064, China) Abstract: TiAlN coatings were prepared with powder and smelting targets, respectively, by magnetron sputtering technology under the same deposition parameters. Effect of sputtering target on the morphology, structure and mechanical properties of TiAlN coatings was investigated by SEM, AFM, XRD, nano indentation and adhesion testing. The results show that the microstructure of the two type’s target exhibited a totally different existential state: the elements o