磁控溅射纳米硬质膜工艺及力学性能研究-材料学专业论文.docxVIP

摘 要 TiN、TiAlN、CrN、CrAlN、TiAlN/CrAlN 等过渡金属氮化物薄膜是应用广泛 的硬质薄膜材料，由于其具有硬度高、耐磨性好、抗氧化能力强等优异的性能， 在刀具、装饰材料、模具、生物、航空等方面有大量的应用。 先前的研究大多数都集中对某一种膜进行研究，得出的规律比较单一，因此， 本论文系统地研究了 TiN、TiAlN、CrN、CrAlN、TiAlN/CrAlN 五种薄膜的工艺、 结构与性能之间的关系以及探讨了单层膜与多层膜力学演变规律与机理，为高性 能硬质膜的研发提供基础数据与理论。 本文采用磁控溅射法制备了 TiN、TiAlN、CrN、CrAlN、TiAlN/CrAlN 五种薄 膜，系统地研究了负偏压、溅射电流、N2 流量、Ar 流量等工艺参数对 TiN 与 CrN 薄膜表面形貌、微观结构及力学性能的影响，研究了 Al 靶功率对 TiAlN 与 CrAlN 膜表面形貌、微观结构及力学性能的影响，研究了调制周期对 TiAlN/CrAlN 周期 多层膜微观结构与力学性能的影响。分别使用激光共聚焦显微镜、扫描电子显微 镜(SEM )、X 射线衍射仪(XRD)和纳米压痕仪等设备对薄膜的表面形貌、成分、微 观结构、硬度进行表征。 通过激光共聚焦显微镜观看到 TiN、TiAlN、CrN、CrAlN 薄膜最小表面粗糙 度分别为：7nm、17nm、3nm、5nm。 利用纳米压痕仪检测得到 TiN、TiAlN、CrN、CrAlN、TiAlN/CrAlN 薄膜最高 硬度分别为 21.27GPa、16.81GPa、23.50GPa、24.01GPa、32.51GPa。 对 TiAlN/CrAlN 周期多层薄膜的硬化原因进行了探讨，认为多层膜在晶粒能 容纳位错的条件下的硬化原因是霍尔佩奇效应。 关键词：TiN 薄膜；TiAlN 薄膜；CrN 薄膜；CrAlN 薄膜；TiAlN/CrAlN 周期多层 膜；硬度 Abstract TiN, TiAlN, CrN, CrAlN, TiAlN/CrAlN transition metal nitride film, are widely used as hardness film material, have a large number of applications in tools, decorative materials, molds, biotechnology, aerospace and other aspects because of its high hardness, wear resistance, high resistance to oxidation and other excellent performance. Most previous studies have focused on a certain kind of film and obtained regular patterns were poor. Therefore, this paper systematically studied the relationship between technology, structure and properties of TiN, TiAlN, CrN, CrAlN, TiAlN / CrAlN films and discussed the mechanical evolution and mechanism of films form monolayer to multilayer, and provided basic data and theory for researching and developing of the higher performance hard films. TiN, TiAlN, CrN, CrAlN, TiAlN/CrAlN five kinds of films were prepared by magnetron sputtering, systematically investigated the effects of the negative bias voltage, sputtering current, Nitrogen flow rate and Argon flow rate on surface morphology, microstructure and mechanical properties of TiN and CrN films, investigated the effects of Al target power on surface morphology, microst