磁控溅射制备二氧化钛薄膜及其纳米结构的研究-材料物理与化学专业论文.docx

Classified Index: TB43 U. D. C: 620 Dissertation for the Master Degree of Engineering RESEARCH ON FABRICATION OF TITANIA THIN FILMS AND NANOSTRUCTURES BY MAGNETRON SPUTTERING Candidate: Huang Jia Supervisor: Prof. Yu Jie Academic Degree Applied for: Master of Engineering Specialty: Materials Physics and Chemistry Affiliation: Shenzhen Graduate School Date of Defence: December, 2009 Degree-Conferring-Institution: Harbin Institute of Technology 哈尔 哈尔滨工业大学工学硕士学位论文 I I 摘 要 本论文利用磁控溅射法制备了 TiO2 薄膜及其新型纳米结构，研究了其生长 规律和结构特征。TiO2 薄膜的制备利用反应溅射方法进行，研究了不同氧氩流量 比、溅射气压、基体温度以及溅射功率对 TiO2 薄膜生长及其结构的影响。TiO2 纳 米结构的制备首先利用溅射法沉积金属薄膜，然后结合适当的氧化工艺完成，研 究金属薄膜成分、热处理温度、升温速率，氧化时间等对纳米结构形成的影响规 律，并研究在 Ti 膜中引入 Cu 和 Zn 元素对 TiO2 纳米结构生长的影响。 本研究中采用 Raman、XRD、SEM 和椭偏仪对薄膜结构和形貌进行表征。 分析结果表明氧氩流量比、溅射气压、基体温度和溅射功率对晶体结构、结晶度 和薄膜的沉积速率有重要的影响。其中氧氩流量比对薄膜的沉积速率和结构影响 尤为显著。溅射气压的优化有助于提高生长速率。在 500 oC 以下沉积的薄膜以锐 钛矿为主，当温度升高到一定温度才出现金红石相 TiO2。较高的溅射功率能够有 效提高薄膜的结晶度和沉积速率。研究结果表明，最优参数组合为氧氩流量比 1： 6，溅射气压 1.5 Pa，基体温度 500 oC，溅射功率 400 W。 传统的溅射沉积方法制备的 TiO2 薄膜一般是由球状颗粒组成的均匀连续的 平坦薄膜，很难获得具有特殊性质的纳米结构。新型纳米结构的制备对 TiO2 的太 阳能电池和光催化方面的应有具有重要的意义。为了制备 TiO2 纳米结构薄膜，我 们基于溅射制备的 Ti 金属薄膜，通过加热过程氧化获得了不同的纳米结构。研究 表明纳米结构的生长与加热温度和金属薄膜的成分有关。随着温度由 400 oC 升高 至 600 oC，其组织形貌由纳米棒变为纳米片。通过引入低熔点的 Cu 和 Zn 元素， 经过热处理后，形成大量的纳米针和纳米片结构。通过不同的热处理参数分析表 明，纳米 TiO2 结构的生长与其热力学行为有关。Cu-Ti 复合薄膜经过热处理氧化 后发现了一种新奇的微观形貌，在 500 oC 下保温 10 小时形成网格图样。 关键词：二氧化钛，薄膜，磁控溅射，纳米结构，热氧化 II II ABSTRACT In this dissertation TiO2 thin films and its novel nanostructures have been prepared by magnetron sputtering and the effects of process parameters on the growth and structure of the TiO2 films and nanostructures were investigated. The preparation of the TiO2 thin films were carried out by reactive sputtering, where the effects of gas flow rate ratio of O2/Ar, working pressure, substrate temperature and sputtering power on the film growth were investigated systematically. By oxidizing metal films deposited by magnetron sputtering at different conditions the TiO2 nanostructures were prepared, where the roles of meta