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等离子体气相沉积法制备纳米石墨烯及其性能研究-电子科学与技术专业论文
国防科学
国防科学技术大学研究生院硕士学位论文
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国防科学技术大学研究生院硕士学位论文
万方数据
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目 录
摘 要 i
ABSTRACT ii
第一章 绪论 1
1.1 碳电子学的兴起 1
1.2 石墨烯的性质及应用 2
1.3 石墨烯的制备方法 5
1.3.1 机械剥离法 5
1.3.2 还原氧化石墨法 6
1.3.3 碳化硅外延生长法 6
1.3.4 化学气相沉积法 7
1.3.5 等离子体气相沉积法制备纳米石墨烯 8
1.4 本文的选题依据与研究内容 9
第二章 纳米石墨烯及表征技术 11
2.1 等离子体化学气相沉积原理 11
2.1.1 等离子放电与低温等离子体 11
2.1.2 等离子体气相沉积过程中形核及生长过程 13
2.1.3 等离子体化学气相沉积法在纳米石墨烯薄膜制备方面的应用 15
2.2 纳米石墨烯表征技术 16
2.2.1 扫描电子显微镜形貌及成分分析 16
2.2.2 拉曼光谱结构分析 17
2.2.3 透射电子显微镜结构分析 20
2.4 本章小结 22
第三章 纳米石墨烯制备与表征 23
3.1 纳米石墨烯的制备 23
3.1.1 铜箔的电化学抛光 23
3.1.2 纳米石墨烯沉积流程 25
3.1.3 纳米石墨烯转移流程 26
3.2 制备参数对纳米石墨烯的影响 27
3.2.1 压强对纳米石墨烯的影响 27
3.2.2 气体成分对于纳米石墨烯的影响 29
3.2.3 基底类型对纳米石墨烯的影响 31
第 I 页
3.2.4 温度和等离子体功率对纳米石墨烯的影响 33
3.2.5 电场对纳米石墨烯的影响 33
3.3 本章小结 34
第四章 纳米石墨烯的阻值变化效应 35
4.1 器件制备流程 35
4.2 电学性能测试 36
4.2.1 电阻转变性质的发现 36
4.2.2 小电压特性分析 38
4.2.3 可靠性测试 39
4.3 电阻转变机理分析 40
4.4 本章小结 41
第五章 结束语 42
5.1 全文工作总结 42
5.2 未来工作展望 42
致 谢 43
参考文献 44
作者在学期间取得的学术成果 54
附录 A 纳米石墨烯的制备、表征及测试设备 55
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国防科学技术大学研究生院硕士学位论文
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第
第 PAGE III 页
万方数据
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表 目 录
表 1.1 石墨烯的性质 3
表 2.1 典型拉曼峰的物理起源 19
表 3.1 铜箔电解抛光液成分表 24
表 3.2 验证压强影响制备参数表 28
表 3.3 验证氢气/甲烷比例影响制备参数表 30
表 3.4 氧气浓度对纳米石墨烯方阻的影响 31
表 3.5 验证氢气/甲烷比例影响制备参数表 32
表 4.1 纳米石墨烯阻变薄膜制备参数 36
表 4.2 不同偏置电压对电阻的影响 38
表 4.3 阻变模型一览 40
图 目 录
图 1.1 石墨烯构成了众多碳材料的基本单元 2
图 1.2 石墨烯中的褶皱 3
图 1.3 石墨烯射频混频电路 4
图 1.4 氧化石墨烯阻变器件 5
图 1.5 机械剥离法制备石墨烯 6
图 1.6 卷对卷工艺流程 7
图 1.7 等离子体气相沉积卷对卷工艺示意图 8
图 2.1 物质的四种状态 12
图 2.2 低温等离子体辉光放电 13
图 2.3 沉积基底表面的反应 14
图 2.4 电场调制纳米石墨烯制备 15
图 2.5 等离子体气相沉积设备 16
图 2.6 不同薄膜的 SEM 形貌表征 17
图 2.7 拉曼散射与瑞利散射 18
图 2.8 不同碳材料的拉曼光谱 18
图 2.9 单层石墨烯与纳米石墨烯的典型拉曼峰 19
图 2.10 晶格大小与拉曼峰 ID/IG 的关系 20
图 2.11 天然石墨中存在的堆叠结构 21
图 2.12 石墨烯 SAED 衍射图样 21
图 3.1 基底表面形核过程 23
图 3.2 抛光前后的铜箔表面 24
图 3.3 电化学抛光示意图 24
图 3.4 PECVD 设备外观 25
图 3.5 PECVD 制备示意图 25
图 3.
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