镍在AZ91D镁合金表面的电沉积过程及其沉积层性能研究投稿.docVIP

镍在AZ91D镁合金表面的电沉积过程及其沉积层性能研究 赵明坚蔡超b2）王铃1》张昭作者简介：赵明坚，男，副教授。 通讯作者：张昭，Tel: （0571 作者简介：赵明坚，男，副教授。 通讯作者：张昭，Tel: （0571E-mail： HYPERLINK mailto:eaglezzy@ziuem.zju.edu.cneaglezzy@ziuem.zju.edu.cn 基金资助：本工作得到了国家自然科学基金（No.和超轻材料与表面技术教育部 重点实验室（哈尔滨）的资助. 1） 浙江大学化学系，杭州310027 2） 宁夏大学化学系，银川750021 3）超轻材料与表面技术教育部重点实验室，哈尔滨，150001 在AZ91D镁合金基底上电沉积制备了具冇较高耐蚀性能的Ni镀层。采用 线性电势扫描、计时电势分析等SEM/EDAX、XRD、技术研宂了镁合金基体的 前置处理过程和初时冲击镀Ni时间对镁合金表面的形貌、组成和结构、以及后续 恒流沉积Ni的过程的影响规律。结果表明：镁合金的活化过程可导致镁合金表面 a相处有氟化物和磷酸盐或焦磷酸盐的混合物膜生成；在浸锌处理过程中，锌在 镁合金表面的P相处优先生长形成网状结构的沉积层。所生成的浸锌层、氟化物 和磷酸或焦磷酸盐的混合物膜均可以显著改善镁合金基底抗御镀液侵蚀的能力， 并使得后续的Ni沉积层与镁合佥基底之间具有很好的结合力。在冲击镀镍过程的 初期，镍在浸锌层位置优先成核并外延生长，期间也会在a相处氟化物和磷酸或 焦磷酸盐的混合物膜表面的少量位置处成核和外延生LC最终镍沉积层互相连 贯，经后续恒电流沉积后，镁合金表面形成一层具有较高耐蚀能力的与基底结合 良好的苞状致密光亮Ni沉积层。 关键词：AZ91D镁合金，前置处理，电化学沉积，镍 镁合金质量轻，并具有高比强度、比刚度以及良好的铸造、焊接、阻尼减震、 切削加工及尺寸穂定等优良特性，使得镁合金在航空航天、汽车和电子通讯等 诸多领域具有广阔的应用前景^j。但是镁及其合金的化学活泼性很高，其表面 的自然氧化膜结构松散、不具保护性，导致其在大气环境中，特别是在潮湿空气、 含硫气氛和海洋大气中易发生严重腐蚀，因而极大程度地限止了它的应用领域。 提高镁合金耐蚀性的常用方法包括：1）通过改变合金的元素组分和新的冶 炼工艺來提高镁合金整体部件的耐蚀性［47］; 2）通过表面处理技术，包括表面化 学转化处理阳极氧化［14151、金属镀层［1625\激光表面改性离子注入 有机涂层［3234］等方法，在表面形成一层功能层而显著改善镁合金的耐蚀性。目前， 通过化学镀或电镀方法在镁合金基底上沉积一层金属或合金层作为防腐、耐磨的 功能性镀层在镁合金的防护上倍受关注。但镁是电化学活性最高的金属之一，镁 或镁合金基底上的镀层均为阴极性的镀层，为Y避免与介质接触时发生电偶腐 蚀，镀层必须致密无孔。在化学镀或电镀前，基底材料必须经过适当的前处理。 化学镀工艺只有镀层厚度均匀、对基底材料形状和导电性没有要求等显著优 点，但也存在镀速慢、镀液稳定性差等明显的缺点；而电镀工艺正好能够弥补化 学镀工艺的这些缺陷。因此寻找一种合适的前处理和电化学镀工艺在镁或镁合金 基底上得到金属镀层，一直是众多研究者追求的目标之一。 本文通过直流电沉积技术在AZ91D镁合金基底上获得了具奋较高耐蚀性能 的光亮镍镀层。采用SEM/EDAX、XRD、线性电势扫描、计时电势分析等技术 研宄了镁合金在浸锌处理及其在电沉积Ni过程中的表面形貌和成分的变化情况， 探讨了浸锌层对Ni的电化学沉积过程的影响。 1实验方法 实验材料为铸造AZ91D镁合金，其成分如表1所示。 表1 铸态AZ91D合金的化学成分(wt.%) Table 1 Chemical compositions of as cast AZ91D Mg alloy (in wt.%) A1 Zn Mn Ni Cu Ca Si K Fe Mg 8.77 0.74 0.18 0.001 0.001 0.01 0.01 0.01 0.001 Bal. 试样加工成种mm的园柱体，外忖聚四氟,乙條套，园柱体的一个底面（端面） 用作工作面（表面积0.5027cm2）。试验溶液均用AR级化学试剂和二次蒸馏水配 制。电沉积采用二电极体系，以试样为工作电极、大而积钔片为对电极，JH2C 晶体管恒电位仪（上海电子元件二厂）为电源，按需要控制恒定电流，电镀液温度 为65±1C。线性电势扫描、计吋电势分析等电化学测试均采用三电极体系，试 样为工作电极，大面积铂片为对电极，饱和U*汞电极（SCE）为参比电极，饱和 氯化钾琼脂凝胶为盐桥，测试仪器为CHI660电化学工作站（上海辰化仪器公司）， 测试温度为