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物理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao)
March Acta Phys. ⁃Chim. Sin. 2011, 27 (3), 749-753 749
[Article]
利用钛保护层在ITO 电极上直接制备大面积的超薄氧化铝膜
* *
肖立新 段来强 柴俊一 王 芸 陈志坚 曲 波 龚旗煌
(北京大学物理学院, 人工微结构和介观物理国家重点实验室, 北京100871)
摘要: 通过磁控溅射并引入钛保护层, 利用在0.3 mol ·L-1硫酸中20 V 电压下二次阳极氧化, 在氧化铟锡(ITO)
2
导电玻璃衬底上直接制备了超薄(约140 nm, 为阳极氧化前Al 厚度的一半)、大面积(约4 cm )的多孔阳极氧化
铝(AAO). 扫描电子显微镜结果表明生成的微孔与衬底垂直, 孔径和孔间距分别约为30 和60 nm. 我们发现钛
保护层的作用是提高了Al 层的附着性并且防止ITO 被腐蚀, 在此体系中钛不能被其它的金属如铬、金、银或铜
代替. 紫外-可见光谱透过率结果显示在阳极氧化过程中Ti 被氧化成为透明的TiO , 利用10-20 nm 的钛保护层
2
以及二次阳极氧化过程, 能够保证高透明度. 在ITO 上直接制备的这种透明、有序的AAO 纳米结构在光子学、
光伏领域和纳米制备等方面具有潜在应用.
关键词: 阳极氧化铝; 薄膜; 氧化铟锡透明电极; 钛保护层; 磁控射频溅射
中图分类号: O646
Fabrication of Large Area of Anodic Aluminum Oxide Ultrathin Film
Directly onto an ITO Electrode with a Ti Buffer Layer
XIAO Lixin* DUAN Laiqiang CHAI Junyi WANG Yun CHEN Zhijian
QU Bo GONG Qihuang*
(State Key Laboratory for Mesoscopic Physics, School of Physics, Peking University, Beijing 100871, P. R. China)
Abstract: An anodic aluminum oxide (AAO) ultrathin film (~ 140 nm, about half the thickness of the
original Al fi
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