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超低能耗双室卷绕蒸发镀膜设备的真空机组 龚建华 储继国 在不同的真空镀膜应用中，真空机组有不同的配置，以及不同的抽气工艺。例如大型蒸发镀膜设备通常配置有效抽速达上万升的油扩散泵抽气机组，强劲的抽速可使系统在10—15分钟内压力低于5 x10-2 Pa,以满足蒸发沉积的物理条件。此处所突出的是尽量高的效率。当然，如果在过短的时间内达到沉积压力，工件表面吸附的气体不能有效释放，也达不到理想的沉积效果。而对于磁控溅射镀膜设备，一般配置的为油扩散泵高真空机组或涡轮分子泵高真空机组，但机组并非需要在较短的时间达到较高的真空，此处强调的是在一个合理的时间内能使真空室内壁及工件比较彻底的除气，从而在后续的较长时间的沉积过程中，把活性气体对膜层的不利影响控制在所允许的程度，否则不能保证膜层的质量。虽然配置了高真空泵，但对沉积而言极限真空度并不是最重要的，进入高真空也仅仅是有利于放气。众所周知，典型的磁控溅射沉积压力并不在高真空范围。在有机薄膜基材上连续蒸发沉积金属或介质膜是真空镀膜的又一重要的产业化应用。对于大型连续卷绕蒸发镀膜设备，其真空机组的配置及抽气工艺与上述的镀膜应用设备又有不同。由于基材即有机薄膜数量大，故放气量大；又因为薄膜卷绕在一起，不易放气，仅是在卷绕的过程中不断地放气。因此先除气再蒸镀的方法显然不行