应用於深紫外光雷射镜光学镀膜之氟化物薄膜制镀缺陷改善.PDF

行 雷 精 類 行 年年 行 理 連 參理 理李 理 理林 論 理 年 ■成果報告 行政院國家科學委員會補助專題研究計畫 □期中進度報告 應用於深紫外光雷射鏡光學鍍膜之氟化物薄膜製鍍缺陷改善 (3) 計畫類別： ■個別型計畫 □整合型計畫 計畫編號： NSC98 －2221 －E －030 －002 － 執行期間： 98 年 8 月 1日至 99 年 7 月 31日 執行機構及系所：輔仁大學物理系 計畫主持人：徐進成 共同主持人：張連璧 計畫參與人員： 林永鑫、江岳聲、黃文駿、李政諭 成果報告類型(依經費核定清單規定繳交 ) ：■精簡報告 □完整報告 本計畫除繳交成果報告外，另須繳交以下出國心得報告： □赴國外出差或研習心得報告 □赴大陸地區出差或研習心得報告 ■出席國際學術會議心得報告 □國際合作研究計畫國外研究報告 處理方式：除列管計畫及下列情形者外，得 立即公開查詢 □涉及專利或其他智慧財產權，□一年■二年後可公開查詢 中 華 民 國 99 年 10 月 28 日 1 1. 摘要 對於紫外光區的抗反射膜、高反射鏡及偏振分光鏡等光學元件的需求日益增加。又 由於紫外光的波長較短，能量較大，因此應用在紫外光區的薄膜材 料必須具備更大的能 帶間隙，方能在此區域不吸收而被使用 [1- 3] ，特別是在深紫外光區域(Deep UV, 100nm~300nm) 。本計劃中，由於氟化鎂（ MgF ）、氧化鋁(Al O ) 薄膜在深紫外光具有良 2 2 3 好的穿透率 ，因此實驗即選擇此兩種材料作為鍍製紫外光薄膜之基材。 然而，一般在使 用熱蒸鍍法鍍製氟化鎂與氧化鋁薄膜時，薄膜較容易形成柱狀結構、產生水氣吸收及低 堆積密度等缺點 。為了解決以上之問題，本計畫預計以離子束濺鍍(IBSD) 系統配合高低 折射率材料(MgF /Al O )鍍製多層膜，利用 IBSD能以高能量 離子束轟擊靶材 之特點，以 2 2 3 不同的離子束電壓與固定離子束電流 鍍製出高品質薄膜，並研究針對 266nm 波段紫外光 可使用的高穿透與高反射光學系統元件，此外 ，配合 Macleo d軟體優化膜堆，並有效提 升雷射鏡之品質。 接著配合自行開發的 雷射鏡片架設光學系統，實際的測試光學透鏡之 266nm雷射損耗質，最後再做分析及修正 266nm 紫外光雷射薄膜技術。相信這樣的方式 開發此產品，在薄膜的品質能有突破。 It is essential to all deep UV optical materials having wide bandgap so they are transparent to the DUV light. However, low packing density, column