铌酸锂晶片化学机械抛光研究-凝聚态物理专业论文.docxVIP

优秀毕业论文 精品参考文献资料 研究生优秀毕业论文 大连理工大学硕士学位论文摘 大连理工大学硕士学位论文 摘 要 铌酸锂晶体(LiNbOa，LN)具有居里温度高、自发极化强、机电耦合系数高、可掺 杂性好等一系列优良特性，被广泛应用于非线性光学、铁电、压电、电光等领域，在非 线性光学晶体中占据很大市场份额，享有“光学硅”的美誉，被称为“通用型”和“聪 明型”晶体。 LN晶体的硬度处于软脆晶体和硬脆晶体之间，具有强烈的温度和力学各向异性性 能，因此具有非常低的损伤阀值及较高的脆性，传统的加工方法例如机械抛光、研磨、 飞秒激光加工会出现划痕、磨料嵌入、塌边、断裂等加工缺陷，而LN晶体一般作为高 性能的光学器件使用，表面粗糙度需要达到亚纳米级别，同时表面不能有任何缺陷，这 些要求对铌酸锂的加工提出了严峻的挑战。 针对传统加工出现的各种问题，本文采用化学机械抛光的方法，优化抛光液配方及 工艺参数，使得在较高的材料去除率下，获得好的表面质量。本文提出通过固结磨料研 磨、粗抛、精抛的加工工艺方法来加工铌酸锂晶片，采用固结磨料研磨时，可获得6．342 gm的全局表面平整度，同时材料去除率达到1．3 1．tm／min，研磨过后采用粗抛工艺去除 研磨产生的损伤层，粗抛时选用氧化铝磨料和聚氨酯抛光垫，获得了420．3 nm／min的材 料去除率，同时表面粗糙度为1．727 nlTI，基本去除了研磨时表面产生的划痕，之后用配 置的抛光液对铌酸锂晶片精抛，抛光液配方为1000 mL抛光液中含有次氯酸钠30 g、柠 檬酸16 g、二氧化硅(粒径20 nm)140 g、硅酸钠2 g、pH值为10，不断优化机床工艺 参数，获得了O．312 nnl的超光滑低损伤表面，同时材料去除率达到341．5 nm／min，满足 加工要求。 采用能谱分析(EDS)和电化学实验对各种成分抛光液的化学腐蚀作用做了研究， 通过扫描电镜和能谱图的方法，发现在抛光液中加入次氯酸钠之后表面含氧量上升，表 面氧元素重量百分比从31．86％增]JI]到34．51％，原子百分比从56．56％增j][1至lJ66．62％，加 入柠檬酸之后，氧元素的含量进一步上升，表面氧元素重量百分比从31．86％增加到 37．1％，原子百分比从56．56％增加到74．89％，初步解释了材料去除率上升的原因；通过 电化学实验测量不同抛光液的塔菲尔极化曲线，然后由塔菲尔极化曲线求得腐蚀电流及 腐蚀电压，判断不同抛光液的腐蚀能力，以及研究不同pH值和氧化剂对抛光液腐蚀能力 的影响，实验发现当抛光液中含有次氯酸钠、柠檬酸，同时pH值为1 l时，可以提高抛光 液的腐蚀能力，获得较高的材料去除率，提高加工效率。 关键词：铌酸锂晶体；化学机械抛光；抛光液；表面粗糙度；材料去除率 万方数据 铌酸锂晶片化学机械抛光研究Abstract 铌酸锂晶片化学机械抛光研究 Abstract Lithium niobate(LiNb03，LN)crystal is a kind of nonlinear optical material with combination of excellent electro—optic，acousto—optic，piezoelectric and ferroelectric properties．LN has to be widely used in applications such as nonlinear optics，ferroelectric， piezoelectric，lightning，and thus it is considered as the“silicon of photonics’’in the age of optoelectronic． LN crystals has hardness in between soft crystal and hard brittle crystal．It has a unique mechanical properties such as temperature and mechanical anisotropy properties，low damage threshold and high brittleness，when using traditional processes such as lapping，grinding and polishing，there are scratches，cracks and embedding on the machined LN surface．LN crystals are commonly used as high—performance optics，surface roughn