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为不能擦除。所以目前所有从事光盘存贮技                      走上商品化和技入的力量和进展上可能日本 
                                         会走在前面。 
术研究的机构都集中在可擦除型光盘的研制 
上。从基础研究至目前的发展阶段,已经历 
                                             美在可擦除光盘研究和开发上主要在 
了七、八年。可擦除型光盘介质目前三分之                      IBM、施乐、3M、 EOD、光学数据公司、美国无 
二力量集中在磁光型。磁光法使用的技术几 
                                         线电公司等,前三家都已做出光盘p 并建立中 
乎与垂直磁性记录相同。          但是它具有可擦除 
                                         试, 3M 公司今年称有光盘3  而未配驱动器。 
的优点,因此使目前从事磁存贮和磁驱动器                      日本在磁光型光盘上就有二十家2              目前已有 
的单位把注意力转移到光存贮方面来。还有 
                                         中试光盘,配驱动器演示和试用的有日立、东 
二分之一的力量从事相变型可擦除介质,它 
                                         芝、索尼、日本电报电话公司、三祥、夏普、松 
的优点是与不可擦除型光盘驱动器可以兼 
                                         下、日本广播技术研究所等。            日本电报电话 
容。目前如IBM、菲利浦、富士通、日立等研 
                                         公司已有四台可擦除光盘存贮器在该公司信 
究中心,两者皆研究;施乐、通用电气、索尼、                    息中心线上试用。       有四家在万国博览会上展 
东芝、汤姆逊等从事磁光型;富士通、 EOD 等 
                                         出。 
从事相变型。据统计全世界有52 家公司在 
                                             可擦除光盘及驱动器当前未23投入生产 
研究光学驱动器,       17 个机构研究光盘介质, 
                                         的主要原因如下: 
其中大部分进行可擦除光盘研究,而研究磁 
                                             (一)光盘材料的长期稳定性还未彻底 
记录介质的很少。 
                                         解决。   目前主要是磁光型TM-RE 合金,虽 
    可擦除光盘目前没有产品,几家公司的                    然做了不少防止氧化的工作3            也做了寿命条 
研究中心目前处于发展阶段,都宣称技术问                      件试验,但始终担心光盘的长期稳定性。 
题己解决. 1,2 年后会有产品,技术转让的 
                                             (二)  目前成本还高,这是与小型温切斯 
可能性是五年以后的事。           目前处于技术竞争           特磁盘和驱动器竞争的问题。            写录的高功率 
                                         半导体激光器的成本也还高 (20mW 的激光 
和保密阶段。      可擦除光盘介质的研究一直是 
                                         管约 300 美元),磁光型光盘的信号拾取系统 
各次国际光盘技术会议的中心主题,但会上 
只谈最终的测试结果,不谈材料和技术细节,                     比较复杂,光学元件的戚本高,价廉质轻的全 
一般谢绝参观发展部门。 
                                         息聚焦物镜还在试制中。 
                              
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