城市生活垃圾焚烧烟气的中高温脱氯研究动力工程及工程热物理热能工程专业论文.docxVIP

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城市生活垃圾焚烧烟气的中高温脱氯研究动力工程及工程热物理热能工程专业论文

东南大学博士学位论文时,其传热系数下降,温升速率变慢,并由实验结果获得传热传质系数。 东南大学博士学位论文 时,其传热系数下降,温升速率变慢,并由实验结果获得传热传质系数。 建立带有脱氯反应的欧拉双流体模型,利用上述的实验结果,同时考虑稠密气固流动、传热传 质和相内、相间的化学反应,对HCl在错流移动床中的脱除过程进行数值模拟。首先对错流移动床 中气固流动进行冷态数值模拟研究,且为提高吸附剂的利用效率,保证同一床层的吸附剂可以在错 流移动床中基本保持停留时间一致,通过添加内构件的方法改善床内颗粒流动。在冷态模拟的基础 上,考虑传热传质并引入脱氯反应模型,研究固体下料速度、气体流速和反应温度对物料分布和脱 氯行为的影响,预测不同工况下HCl的脱除效果,结果表明:在中高温条件下,Ca.Mg.Ai HTLs吸 附剂可以实现在错流移动床中的高效脱除HCl。且一定的气体流速可以提高吸附剂的脱氯效率,为 保证吸附剂的充分利用需要选择合适的吸附剂表观下料速度。 关键词:HCl脱除:类水滑石吸附剂;吸附效率;错流移动床;数值模拟 II 万方数据 ABSTRACTMunicipal ABSTRACT Municipal Solid Waste(MSW)combustion is the way of waste disposal.MSW is always rich in organic chlorine and inorganic chlorine.The concentration of HCl reach as high as several hundreds to several thousands ppm when combusted.HCl can cause the high temperature corrosion of the heating surface corrosion,which restricts the main stream parameters of MSW incineration power generation, resulting in low efficiency.Especially at 250-450 oC,high concentration of HCI enhances the toxicity of PCDD/Fs.So there is an urgent need to carry out in—depth study the high efficiency removal of HCI at medium-high temperature. Compared with the removal efficiencies of adsorbents under the middle—hi蚀temperature,for the characteristics of HTLs,such as interlayer ion exchange,acid base,thermal stability and on,the HTLs is chosen to remove HCl under middle-high temperature as the adsorbent.By changing the composition ofthe material,a novel HTLs,which called Ca·Mg—A1 HTLs is developed.Then the T13I FTIR,XRD,BET and SEM-EDS are applied to characterize the phy’sical and chemical properties of obtained samples,to obtain the influence of properties of Ca-Mg—AI HTLs adsorbent the removal efficiency.The results show that Ca—Mg-AI HTLs have obvious characteristics of layered structure. A fixed bed experimental system was built to test the property of adsorbent.The effects of different operating conditions the adsorption of adsorbent,such reaction temperature,gas flow rate,initial concentration of HCI,parti

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