磁控溅射法制备氧化钨薄膜的膜层微观结构对电致变色性能的影响.PDF

激光与光电子学进展 , ( ) « » ５４ １１３１０３２０１７ C２０１７ 中国激光 杂志社 LaserOtoelectronicsProress ○ p g 磁控溅射法制备氧化钨薄膜的膜层微观结构 对电致变色性能的影响 １ １ １ １ １ １ １ １ ２ , , , , , , , , 初文静 张喜强 施瑕玉 郑友伟 林俊良 陈明亿 林金锡 林金汉 袁宁一 １ , ; 常州亚玛顿股份有限公司光电玻璃省重点实验室 江苏 常州 ２１３０００ ２ , 常州大学光伏科学与工程协同创新中心 江苏 常州 ２１３０００ , ( ) , 摘要 利用磁控溅射法 在不同工作压强下制备了氧化钨 薄膜 研究了工作压强对 膜层微观结构的调 　 WO３ WO３ , . , , 控作用 并研究了WO３膜层微观结构对其电致变色性能的影响 研究结果表明 制备的WO３ 薄膜属于非晶相 表 ; , , ; 面呈峰状结构 随着工作压强的增大 WO３ 薄膜膜层微观结构变疏松 电致变色响应时间和循环寿命均减短 在最 , , . 佳膜层微观结构下 WO３ 薄膜光学密度可达 ０．６４循环寿命达 １５００周 ; ; ; 关键词 薄膜 微观结构 氧化钨 电致变色性能 　 中图分类号　O４８４　　　文献标识码　A : / doi１０．３７８８LOP５４．１１３１０３ EffectofFilmMicroＧStructureofTunstenOxideFilmsDeosited g p b ManetronSutterin onElectrochromicPerformance y g p g １ １ １ １ １ ChuWenin Zhan Xiian ShiXiau Zhen Youwei LinJunlian jg g q g y g g １ １ １