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真空镀膜(第一).ppt
光学薄膜技术及其最新进展讲 座 讲座人: 齐 钰 幻灯制作：刘芳 2006.12.16~2007.1.15 目 录 第一讲：从近些年光学镀膜产业的突飞猛进看光学镀膜技术的发展趋势和特点（一课） 第二讲：真空镀膜设备性能及其配置（一课） 第三讲：薄膜蒸发制备的手段—电子枪，离子源及其使用技术（二课） 第四讲：光学镀膜膜系介绍及其设计，制备技巧（二课） 第五讲：光学薄膜折射率和膜厚的标定方法(一课) 第六讲: 光学镀膜材料介绍及其选择应用方法（一课） 第一讲 从近些年光学镀膜产业的突飞猛进看镀膜技术的发展趋势和特点 一 介绍近十年信息技术领域（光纤通讯等）的通信技术、显示技术、信息处理技术等的巨大发展，大大推动了光学镀膜技术和设备的发展。 蒸空镀膜蒸发技术和设备（新型电子枪和离氧源介绍）. 高性能全自动化的镀膜设备（OTFC—1300 DBI，APS—1104高品质薄膜大批量生产）. 高稳定高精度监控技术和设备. 高精度膜片性能检测技术和设备（DWDM ⊿λ＜0.6nm ,dB0.3等测量专用设备）. 1 以光通讯波分复用器所用“DWDM滤光片”的性能要求和产业化生产为例，看镀膜技术的发展。 2 以投影显示设备的发展，看DLP和LCD两个类型投影机光学系统对镀膜器件质量的要求，看镀膜技术的发展。 二 发展趋势和特点 1 蒸发手段新技术，新设备的应用,电子枪的不断改进,离子源辅助蒸发技术(RF 和APS 等离体离子源). 2 高性能光学膜厚监控技术. 3 晶体膜厚和速率监控技术. 4 真空系统的大抽速配置对真空环境的稳定性贡献. 5 高性能全自动控制镀膜设备的进展（大抽速，高真空，光学膜厚直控工件，工件高速旋转，工件精确温控，离子源长时间稳定输出，电子枪稳定长时间蒸发等）. 6 大型真空镀膜设备制造为产业化生产和镀膜技术的进一步发展创造良好的条件. →发展趋势的特点： 1 薄膜器件趋向小型化（DWDM滤光片，IR-CUT滤光片）. 2 薄膜器件要求高稳定性，经得起后继光学加工的“环境”要求. 3 薄膜器件光学特性几乎达到理想化要求. 4 形成大批量产业化生产薄膜器件. 5 新的镀膜技术全面提升，镀膜设备人性化，实现高度的全自动化 . 6 从业光学镀膜的人员大幅度增加，已形成一个不可忽视的专业产业队伍. 光学薄膜制备技术的几项突破 1. 100多层的超窄带滤光片（DWDM）. 100G:140多层，Δδ＜0.6nm，T＞60%，K＜10-5 ，dB＜0.3. 2. IR-CUT滤光片（36层）UV-IR-CUT滤光片（56层） Δλ＜±5nm,T＞90%,T次＜2%. →无波长漂移的高品质高稳定性实用化薄膜. 3. 平板偏振片代替偏振棱镜，使偏振覆盖整个可见光谱区，实现偏振元件小型化（PBS）. 4. 磁控溅射机量产化生产高质量光学薄膜，突破“少而慢”的历史. 日本RAS溅射机大批量生产UV-IR-CUT和合色棱镜. 5. 高品质的光学薄膜器件进入大规模批量生产时代. 附图片,图表和图示50余张,详见“我的文档”拷贝. * * *
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