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会 会 上 提 出 了一 些 环 形 光 照 模 拟 的 结 果 ， 图 形 的 分 辨 率 在 这 种 照 明 模 式 下 有 明 显 的 提 高 [21。n elm e: F ehrS 用 试 验 数 据 证 实 了 e 址15 M aek 的 方 法 是 有 效 地 [3J。 离 轴 照 明模 式 用 不 同 形 状 的 光 圈 引 导 光 线 以 特 定 的 入 射 角 落 到 光 罩 上 ， 使 高 阶 的 图 形 信 息 能 够 被 投 影 透 镜 捕 捉 到 。 入 射 角 度 的 调 节 、 光 罩 图 形 的 间 隔 周 期 调 整 以 及 更 多 的 高 阶 频 率 参 与 成 像 ，这 些 因 素 的 结 合 使 图像 的 分 辨 率 得 到 提 高 。 后 来 又 启 发 出 很 多 新 的 照 明 模 式 ， 如 图 1.2 所 示 。 在 二 十 世 纪 八 十 年 代 ， 提 出 四 重 光 源 (fouxfold source)的 理 论 l4]。 其 后 又 提 出 分 离 光 源 的 照 明 模 式 (seP arat ed source) [5一6]， 但 这 种 方 式 对 图 形 分 布 有 特 别 要 求 。 二 十 世 纪 九 十 年 代 初 ， 四 极 照 明 (qua druP ole)被 光 刻 设 备 厂 商 逐 步 采 用 卜9]。 另 外 还 有 针 对 分 离 式 布 局 和 二 次 曝 光 技 术 ， 由双 极 光 照 (di p ole)发 展 出 的 分 立 式 照 明 模 式 [，。] 。 河 行兮)_夕回 仓 口 传 统 照 明 模 式 双 极 型 照 明模 式 四极 型 照 明模 式 环 形 照 明 模 式 分 立 照 明模 式 丫 分 立 照 明 模 式 x 图 1.2 各 种 照 明 模 式 相 位 移 光 罩 又 称 移 相 光 罩 (Pha se一S hiffing M asks ， P SM )。 原 理 是 利 用 两 束 来 自同 一 光 源 的 相 同 相 位 的光 波 ， 在 穿 过 光 罩 中 的移 相 层 和 非 移 相 层 后 ， 两 光 波 电 场 幅 度 向量 间 产 生 二 (或 Zn +l 二)相 对 相 位 差 ， 形 成 相 消 干 涉 ， 使 两 电场 振 幅 强 度 矢 量 总 和 为 零 ， 因 此 光 强 为 零 ， 这 样 可 以提 高 相 邻 空 间 影 像 解 析 度 ， 达 到 增 加 焦 深 和 分 辨 率 的 目 的 。 主 要 有 两 种 类 型 。 第 一 种 是 透 射 减 幅 的 移 相 光 罩 (A tten u ated P h ase一s hifti ng M ask ，舰 一P s M )， 它 以铬 一玻 璃 (C hxom e一on 一G lass，C O G ) 光 罩 为 基 础 ， 在 暗 (dark field ) 场 区 域 制 作 移 相 层 ， 这 种 光 罩 在 设 计 上 不 需 要 太 多 变 化 。 如 图 1.3 (a)另 一 种 交 替 移 相 光 罩 (A ltem atin g p h ase S h iftin g M ask ，A lt一p S M) 在 提 高 分 辨 率 上 更 有 优 势 ，但 因 为 光 罩 本 身 有 图 形 相 差 和 透 光 率 差 等 固 有 性 质 ， 制 作 上 有 一 定 难 度 。 如 图 1.3 (b)’2一’3]。 ! ! ! ! ! 铬 一玻 璃 掩 膜 板 透 射 减 幅 的移 相光 罩 铬 玻 瑞 掩 膜 板 透 射 减 幅 的 移 相 光 置 {:{匕…二遨 达 二兰:;二:;二二，豪 ，/ ，，，， 尸~ \ ~ / ~ 、 、 交 替 移 相光 罩 铬 一玻 璃掩 膜 板 (a ) 透 射 减 幅 的 移 相 光 罩 (b) 交 替 移 相 光 罩 图 1.3 两 种 掩 膜 版 原 理 最 后 就 是 光 学 邻 近 修 正 技 术 ( O P C ) 。 早 期 的 工 艺 中 ， 工 艺 之 间 的 影 响 比 较 小 ， O P C 主 要 是 光 学 方 面 的修 正 ， 是 为 了 补 偿 邻 近 效 应 问题 。 然 而 ， 随 着 制 程 趋 于 细 微 化 、 复 杂 化 ， 前 后 的 关 联 性 很 强 。 ， 因 此 O P C 不 仅 仅 用 来 修 正 光 学 误 差 ， 还 用 在 c M P 图 形 密 度 和 Etch 图 形 的 均 匀 度 调 节 方 面 ， 更 多 包 含 了 D F M (D e