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负载型杂多酸催化剂的制备表征及光催化降解废水中有机染料的研究有机化学专业论文.docxVIP

负载型杂多酸催化剂的制备表征及光催化降解废水中有机染料的研究有机化学专业论文.docx

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负载型杂多酸催化剂的制备表征及光催化降解废水中有机染料的研究有机化学专业论文

舢|l||l|||ffⅧ|11|IflII{fI|If川 舢|l||l|||ffⅧ|11|IflII{fI|If川 |l|||0 Y1 92091 7 摘 要 随着环境污染严重,水资源污染已是世乔各国普遍面临的急需解决的问题之一。 对水中有机污染物特别是有毒、难降解有机污染物的处理一直是化学界及环保领域· 个十分重要的研究课题。因此,新型催化材料的研究、开发与利用‘直受到化学家的 广泛重视。杂多酸作为一种固体酸,具有较好的酸性和氧化催化性能。多酸是由杂原 子(如P、Si、Fe和Co等)和多原子如(Mo、W、V、和Ta等)按·定的结构通 过氧原子配位桥联组成的一类含氧多酸的总称,其独特的酸性、“准液相”行为、多 功能等优点在催化领域中受到人们的广泛关注。杂多酸可以看作是量f级的半导体物 质,能有效地降解废水中的染料及其它有机污染物,具有毒性低、小污染环境、活性 高、反应条件温和.不腐蚀设备等特性.被众多学者作为光催化剞加以f’泛研究。但 由于杂多酸具有比表面积小(lOm2/g)、热稳定性低、不易回收等缺陷.‘实际应用受 到一定限制。如将多酸负载于载体表面则可以极大改善多酸的催化惟能.犀达到回收 重复利用的目的。 本论文以具有较大比表面积和较高热稳定性的介孔分子筛作为钱体.将杂多酸负 载到介孔载体上制备负载型的光催化剂,并采用nIR、XRD、TEM嗣I氯气吸附一瞪 附等手段对催化剂进行表,征。同时,考察了条多酸负载量,甲基磴的浓幢.过氧化氧 的加入量等因素对甲基橙降解效率的影响。 关键词:甲基橙:负载:杂多酸:光催化 Photocatal”ic Photocatal”ic Degradation ofAqueous Methyl orange by Supported Heteropoly Compounds Abstract As铋啊r0姗船tal poll砸oIl’water pollution is锄mgerlt probl锄aU ovcr tlle、Ⅳodd. Especially,me proceSs toward tlle org孤ic pollutallts of poisono髑锄d di衔cult t0 breal( down h嬲be肌a Ve呵important r骼earch subject in the field of environmental proteCtion. Tllerefbre,tlle r胬earch,deVelopment锄d use of the new mat舐aJs haVe anracted ext锄sive attention of tlle ch锄ists.HetI。mpoly acid,硒a solid acid h勰900d acidity锄d catal”ic oxidation pe—自I彻ance. Heteropoly acids are Le诵s一∞id狮d proton acid.Due to their posseSsion of 900d acidity锄d oxid卸t catalyst acti们以朗VironmelltaI衔印dly,HP触win much att∞ti∞缸.0m r鹤earche璐.HoweV瓯the catal如c actiVities of the heteropoly acids are黟eatly limited dlle to t量leir low specific surface areas,锄d they are easy to Iose锄d it is di缳cult to s印amte them丘。om tlle r∞ction systems.Theref.0re,many att锄pts haVe been made to enh锄ce the catal弘ic actiV时of the heteropoly acids.ne supported heteropoly acids were pr印ared by incorpl0训ng me heteropoly acidS into pomus materials. IIl tIlis p叩盯,hete而poly acids were immobrlized into mcsopore mate—als witll lagcr s删沁e撇锄d hi曲them“stability.ne supported heteropoIy acids were catalysts chamct嘶zed by FT-IR,XRD,TEM锄d N2 adso叩tion·d髑。巾tion thechniqueS.In additi呱 the

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