退火处理对玻璃表面沉积的ZnO薄膜微观形貌与.pdfVIP

· 820 · 硅 酸 盐 学 报 2013 年 第41 卷第6 期 硅 酸 盐 学 报 Vol. 41 ，No. 6 2 0 1 3 年 6 月 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY J u n e ，2 0 1 3 DOI ：10.7521/j.issn.0454–5648.2013.06.17 退火处理对玻璃表面沉积的ZnO 薄膜微观形貌与性能的影响 阮鑫栋，姜妍彦，杜兴科，刘贵山，胡志强，刘敬肖 (大连工业大学纺织与材料工程学院，辽宁 大连 116034) 摘 要：以Zn(NO ) ·6H O 为前驱体，采用超声喷雾热解法在500 ℃下、在钠钙硅浮法玻璃衬底上制备了ZnO 薄膜。分别在不同温度(500、550、600 3 2 2 ℃)和不同时间(30、60、120min)对制备的ZnO 薄膜进行了退火处理。研究退火条件对ZnO 薄膜微观结构、形貌以及光学性能的影响。结果表明：退 火处理能提高ZnO 薄膜的c 轴取向；随着退火时间的延长，ZnO 薄膜附着强度随之增加，但c 轴取向度呈先增强，至120min 时又开始呈下降的趋势； 随着退火温度的升高，ZnO 薄膜的 c 轴取向亦出现先显著增强，之后又开始下降的趋势，同时可见光透过率亦呈相同的变化趋势。最佳退火条件为 500 ℃温度保温60 min ，此时薄膜不仅c 轴取向生长优势明显，结晶质量良好，表面颗粒大小均匀，致密平滑，同时薄膜的可见光透过率由退火前的 70%提高到90% 。 关键词：氧化锌薄膜；超声喷雾法；退火处理；微观形貌 中图分类号：TQ171.7 文献标志码：A 文章编号：0454–5648(2013)06–0820–05 网络出版时间：2013–05–21 16:36:22 网络出版地址：/kcms/detail/11.2310.TQ1636.017.html Effect of Annealing on Microstructure and Properties of ZnO Thin Films Deposited on Glass Surface RUAN Xindong ，JIANG Yanyan ，DU Xingke ，LIU Guishan ，HU Zhiqiang ，LIU Jingxiao (School of Textile and Material Engineering, Dalian Polytechnic University, Dalian 116034, Liaoning, China) Abstract: ZnO thin films were prepared by a ultrasonic spray pyrolysis (USP) method on soda-lime-silica float glass substrate at the deposition temperature of 500 ℃ with zinc nitrate as a precursor. The ZnO thin films were annealed at different temperatures (500, 550, 600 ℃) and durations (30, 60, 120 min), respectively. Influence of annealing condition on the microst