大功率稳定微波源的研究与实现检测技术与自动化装置专业论文.docxVIP

A A Th商s subme蛐剐舢一t。me阳u2／／1黝裂／I／111／／I／／／11／／了I／I／18／／I／／／14／I／／／171／／11／ for the Degree of Master of Engineering Research and Realization of a Stably High．．Power Microwave Source Major ：Measurement Technique and Automatic Device Candidate：Chen Wenjin Supervisor：Professor Wang Jianhua Advanced engineer Qin Daodong Wuhan Institute of Technology Wuhan，Hubei 430074，只R．China h May，2006 Z 、， A 摘要摘 摘要 摘 要 微波等离子体技术在等离子体刻蚀、等离子体增强化学气相沉积、 等离子体表面处理及改性等领域有广阔的应用前景。作为激发和维持微 波等离子体的直接动力，功率稳定的微波源具有十分重要的作用。磁控 管是目前人们用来产生大功率微波的主要电子器件。 本课题用来产生大功率微波的主要电子器件是CK．619型大功率磁 控管，它是一种高频二极管型微波频率电磁振荡能量输出器件，当阴极 电压或磁场强度发生微小变化时，微波输出功率会发生很大的变化。系 统在稳定阴极电压的基础上，采用了控制磁场强度的方法来调节微波输 k 出功率，使系统的微波输出功率稳定在设定值上。通过调节IGBT的占空 ‘丘 比的方式，可以使阴极电压稳定在设定值上。 在设计中采用了ATMEGAl6L单片机作为系统的微控制器，使用 AVRICC C语言进行程序设计。通过制板、编程、安装、调试等过程， 成功的设计出了lkW-10kW功率可调的大功率微波源。 文中通过使用Matlab／Simulink、电力系统模块库(SimPowerSystems) 和仿真响应优化(Simulink Response Optimization)I具箱，构建出一个脉 宽可控子系统和磁控管简易仿真模型，在此基础上对整个大功率微波源 系统的进行建模仿真，并对其控制参数进行了优化。这为微波源的分析、 设计及控制方法的研究打下了一定的基础。 关键词：微波源；等离子体；磁控管；ATMEGAl6L单片机；仿真模型 fk ·，． Research Research and Realization of a Stably High-Power Microwave Source Abstract Microwave plasma technology has wide application foreground in plasma etching，plasma enhanced chemical vapor deposition，plasma surface treatment and plasma modification．As the direct power of exciting and maintain microwave plasma，steady-going microwave source has its important effect．Magnetron is the leading electric apparatus now used to produce high power microwave． 丫o The main electric apparatus we used to produce high power microwave is CK．6 1 9 magnetron，which is a high 1jrequency diode characteristic microwave electromagnetism energy outputting device．As the voltage of cathode or magnetic intensity changed slimly,the output power of microwave may change dramatically．The system we designed is based on the steady．going cathode volta